[发明专利]一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法

权利要求书

1.一种用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，包括：

基片运动模块，所述基片运动模块包括基座和滑台，所述滑台设置在所述基座上；

涂布模头模块，所述涂布模头模块安装在所述基片运动模块的基座上，所述涂布模头模块包括涂布模头、溶液腔和激光测距仪，所述激光测距仪和所述涂布模头设置在所述溶液腔上；

升降模块，所述升降模块带动所述涂布模头模块升降；

液体循环模块，所述液体循环模块安装在所述基片运动模块的基座上，所述液体循环模块包括输送泵、循环泵、输送泵基座、循环泵基座、输送管路、循环管路、回收管路、输送阀门、回收阀门、液体桶和回收桶，所述输送泵安装在所述输送泵基座上，所述循环泵安装在所述循环泵基座上，所述输送泵从所述液体桶中泵送液体至所述涂布模头模块的溶液腔中；及

基片调整模块，所述基片调整模块设置在所述涂布装置的顶部并安装于所述基片运动模块的滑台上；

所述液体循环模块还包括过滤器，所述过滤器位于循环泵和涂布模头之间，所述输送阀门控制输送液体的流动，所述循环泵从一侧循环管路抽取溶液腔内液体并泵送至涂布模头并带动液体沿循环管路、涂布模头、溶液腔、过滤器进行循环，所述回收管路两端分别连接循环管路和回收桶，所述回收阀门控制回收液体流动。

2.根据权利要求1所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述基片运动模块还包括：滑块、气浮导轨、直线电机磁轨、直线电机动子、光栅尺、读数头、长条座和连接块，所述气浮导轨和所述长条座安装于所述基座上，所述直线电机磁轨和所述光栅尺安装于所述长条座上，所述连接块安装于所述滑台的中间位置，所述直线电机动子和所述读数头安装于所述连接块的下方，所述直线电机动子通过所述连接块带动所述滑台和所述读数头同步运动。

3.根据权利要求1所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述基座为花岗岩基座，所述滑台为花岗岩滑台。

4.根据权利要求1或3所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述基座上设有凹槽，所述升降模块和液体循环模块安装于所述的基座凹槽面上。

5.根据权利要求1所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述涂布模头安装于溶液腔内，所述激光测距仪安装于溶液腔两端外侧面。

6.根据权利要求1所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述基片调整模块包括：基片、基片保持架、三点调平机构；所述三点调平结构固定于所述滑台上，基片保持架四面环抱基片并夹紧，放置于三点调平机构上；所述基片涂布面朝下放置。

7.根据权利要求1所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述升降模块包括升降滑台、固定架和梯形基座，所述溶液腔安装于所述升降滑台的上方，所述升降滑台通过溶液腔带动涂布模头模块整体升降，所述升降滑台安装于述固定架上，所述固定架固定在梯形基座侧面，所述梯形基座底面安装于所述基座上。

8.根据权利要求1所述的用于大面积光栅制造的涂布装置，其特征在于，所述涂布模头模块位于所述基片下方，所述涂布模头模块在涂布过程中保持静止，所述基片调整模块以及所述滑台由双路直线电机驱动做直线运动。

9.一种用于大面积光栅制造的涂布方法，其特征在于，利用权利要求1-8任一项的涂布装置进行涂布。