[发明专利]一种具有弯曲结构的石墨薄膜在审
| 申请号： | 201711091046.9 | 申请日： | 2017-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN109755195A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 金闯 | 申请（专利权）人： | 太仓斯迪克新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/367 | 分类号： | H01L23/367;H01L23/373;H01L35/22 |
| 代理公司： | 苏州凯谦巨邦专利代理事务所(普通合伙) 32303 | 代理人： | 丁剑 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 第二连接部 第一连接部 石墨薄膜 弯曲结构 多个基板 交替设置 连续石墨 边相 薄膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有弯曲结构的石墨薄膜，包括：多个基板，任意相邻的两个该基板具有一间距，其中该间距为13～15nm，每一基板具有一第一边与一第二边，且该第一边与该第二边相对应；以及至少一个第一连接部与至少一个第二连接部，该第一连接部与第二连接部交替设置于该基板的两侧，其中第N层基板的该第一边与第N-1层基板的该第一边以该至少一个第一连接部之一连接，且该第N层基板的该第二边与第N+1层基板的该第二边以该至少一个第二连接部之一连接，其中该第N层为该基板中的任一层，其中该基板、该至少一个第一连接部以及该至少一个第二连接部构成一连续石墨薄膜。
2.如权利要求1所述的具有弯曲结构的石墨薄膜，其特征在于，其中每一基板、每一第一连接部以及每一第二连接部分别包括单层碳原子或多层碳原子的石墨烯。
3.如权利要求2所述的具有弯曲结构的石墨薄膜，其特征在于，其中该每一层碳原子的厚度范围为3.1～10nm。
4.如权利要求1所述的具有弯曲结构的石墨薄膜，其特征在于，其中该基板包括420至450层。
5.如权利要求1所述的具有弯曲结构的石墨薄膜，其特征在于，其中该基板互相平行。
6.如权利要求1所述的具有弯曲结构的石墨薄膜，其特征在于，其中该至少一个第一连接部与该至少一个第二连接部的形状分别为弧面、曲面、抛物面、尖角面或垂直面中的一种。
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