[发明专利]喷镀用材料和带喷镀膜的构件有效

专利信息
申请号: 201711086205.6 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN108070812B 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 长山将之;伊部博之;益田敬也 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社;福吉米株式会社
主分类号: C23C4/04 分类号: C23C4/04;C23C4/12
代理公司: 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 喷镀 喷镀膜 稀土元素 等离子体 稀土元素卤化物 致密 构成元素 卤素元素 卤氧化物 侵蚀性 混晶
【权利要求书】:

1.一种喷镀用材料,其包含稀土元素、氧和卤素元素作为构成元素,并且包含稀土元素卤氧化物与稀土元素卤化物的混晶。

2.根据权利要求1所述的喷镀用材料,其实质上不含作为所述稀土元素的卤化物的稀土元素卤化物。

3.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其实质上不含作为所述稀土元素的氧化物的稀土元素氧化物。

4.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其实质上不含所述稀土元素卤氧化物。

5.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其中,所述混晶中的所述稀土元素卤化物的比例为5摩尔%以上且95摩尔%以下。

6.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其中,

包含钇作为所述稀土元素、

包含氟作为所述卤素元素、

包含氟氧化钇作为所述稀土元素卤氧化物、

包含氟化钇作为所述稀土元素卤化物。

7.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其是平均粒径为5μm以上且60μm以下的粉体。

8.根据权利要求7所述的喷镀用材料,其中,所述粉体中的孔半径1μm以下的累积孔容积为0.1cm3/g以下。

9.一种带喷镀膜的基材,其具备:基材和所述基材表面的至少一部分所具备的由权利要求1~8中的任一项所述的喷镀用材料形成的喷镀膜,

所述喷镀膜包含稀土元素卤氧化物作为主要成分且孔隙率为7%以下,

所述稀土元素卤氧化物包含稀土元素、氧和卤素元素(X)作为构成元素。

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