[发明专利]喷镀用材料和带喷镀膜的构件有效
申请号: | 201711086205.6 | 申请日: | 2017-11-07 |
公开(公告)号: | CN108070812B | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 长山将之;伊部博之;益田敬也 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社;福吉米株式会社 |
主分类号: | C23C4/04 | 分类号: | C23C4/04;C23C4/12 |
代理公司: | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷镀 喷镀膜 稀土元素 等离子体 稀土元素卤化物 致密 构成元素 卤素元素 卤氧化物 侵蚀性 混晶 | ||
1.一种喷镀用材料,其包含稀土元素、氧和卤素元素作为构成元素,并且包含稀土元素卤氧化物与稀土元素卤化物的混晶。
2.根据权利要求1所述的喷镀用材料,其实质上不含作为所述稀土元素的卤化物的稀土元素卤化物。
3.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其实质上不含作为所述稀土元素的氧化物的稀土元素氧化物。
4.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其实质上不含所述稀土元素卤氧化物。
5.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其中,所述混晶中的所述稀土元素卤化物的比例为5摩尔%以上且95摩尔%以下。
6.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其中,
包含钇作为所述稀土元素、
包含氟作为所述卤素元素、
包含氟氧化钇作为所述稀土元素卤氧化物、
包含氟化钇作为所述稀土元素卤化物。
7.根据权利要求1或2所述的喷镀用材料,其是平均粒径为5μm以上且60μm以下的粉体。
8.根据权利要求7所述的喷镀用材料,其中,所述粉体中的孔半径1μm以下的累积孔容积为0.1cm3/g以下。
9.一种带喷镀膜的基材,其具备:基材和所述基材表面的至少一部分所具备的由权利要求1~8中的任一项所述的喷镀用材料形成的喷镀膜,
所述喷镀膜包含稀土元素卤氧化物作为主要成分且孔隙率为7%以下,
所述稀土元素卤氧化物包含稀土元素、氧和卤素元素(X)作为构成元素。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆