[发明专利]一种低折光率高透明磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201711080844.1 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN107792861B | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 庹文喜;胡荷燕;胡非;林英光;侯灿明 | 申请（专利权）人： | 广州市飞雪材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/154 | 分类号： | C01B33/154;A61K8/25;A61Q11/00 |
| 代理公司： | 广州胜沃园专利代理有限公司 44416 | 代理人： | 徐晶 |
| 地址： | 510663 广东省广州市黄埔区茅岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 折光率 高透明 磨擦型 制备方法和应用 硅酸钠溶液 硫酸溶液 滴加 制备 硫酸钠溶液 生产成本低 工艺稳定 喷雾干燥 气流粉碎 透明牙膏 润湿剂 压滤 牙膏 加热 生产成本 用水量 洗涤 配方 透明度 污染 应用 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种低折光率高透明磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、往反应罐中加入硫酸钠溶液11～13m³，加热至80～95℃，搅拌下同时滴加硅酸钠溶液8.5～12m³和硫酸溶液，控制硅酸钠溶液的滴加速度为13～15m³/h，且控制硫酸溶液的滴加速度以保证反应过程pH值为3.0～4.5，滴加完毕后继续搅拌10～15min；
S2、将形成的二氧化硅进行压滤、洗涤，对洗涤后的二氧化硅采用喷雾干燥、气流粉碎，制得低折光率高透明磨擦型二氧化硅；
所述硅酸钠溶液的模数为2.5～3.0，浓度为1.5～3.0M。
2.如权利要求1所述低折光率高透明磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硫酸钠溶液的质量百分比浓度为6.5～8.5%。
3.如权利要求1所述低折光率高透明磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硫酸溶液的浓度为4.0～5.0M。
4.如权利要求1所述低折光率高透明磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述洗涤后的二氧化硅的含盐量为1.8～2%。
5.如权利要求1～4任一所述低折光率高透明磨擦型二氧化硅的制备方法制得的低折光率高透明磨擦型二氧化硅。
6.如权利要求5所述低折光率高透明磨擦型二氧化硅在牙膏中的应用。
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