[发明专利]一种光刻胶布胶方法

说明书

本发明涉及一种光刻胶布胶系统，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶。该系统改进了光刻胶的布胶方式，不同于现有的大面积滚涂光刻胶、曝光、显影、除胶，光刻胶涂胶由滚涂改为喷头喷涂，直接将光刻胶准确地填充到激光刻线凹槽中。本发明改善了光刻胶布胶工艺，显著减少了原材料光刻胶、显影液及除胶剂的浪费，大大减轻了污水处理压力，降低了能源损耗和EHS风险。

技术领域

本发明公开了一种光刻胶布胶方法，更具体地说，特别是在薄膜太阳能电池领域激光P1刻线后在所刻凹槽中涂布光刻胶的一种方法。

背景技术

薄膜太阳电池是一种在玻璃基底上沉积TCO层和半导体层薄膜，然后用激光对半导体层进行刻划和背电极沉积等使其形成一个个小的元电池并相互连接起来，最后使用封装材料背板玻璃进行封装，形成一个具有较高开路电压和较大短路电流的功能性组件。

其中在进行激光P1刻线后在刻线凹槽中布施光刻胶是薄膜太阳能电池生产中一项重要的生产工艺，目前的技术手段是在激光P1刻线后直接大面积滚涂光刻胶、曝光、显影、除胶。此种工艺在曝光过程中存在曝光过度的风险，即将P1刻线附近多余的光刻胶曝光固化残存在半导体膜层中，增大薄膜电池内部电阻，降低整个组件的发电效率。此外，不仅对原材料光刻胶和显影液、除胶剂等造成了极大的浪费，还增加了污水处理环节。多耗费了大量水电气能源，还增大了EHS风险。

发明内容

本发明的目的是为了解决上诉存在的缺陷和不足，改进了光刻胶的布胶方式，光刻胶涂胶由滚涂改为喷头喷涂，直接将光刻胶准确地填充到P1刻线凹槽中。

为解决以上技术问题，本发明技术方案提供一种光刻胶布胶系统，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶。

优选的，所述的记录模块包括CCD。

优选的，所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块。

优选的，所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。

优选的，所述的处理模块为光刻胶喷头。

优选的，所述喷头可以替换为医用针头。

优选的，所述的喷头的直径与激光刻线凹槽的直径相同或相近。

本发明技术方案提供一种光刻胶布胶方法，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。

优选的，所述的记录模块包括CCD。

优选的，其特征在于，所述的处理模块为光刻胶喷头。

下面对本发明做进一步的详述：

为解决以上技术问题，本发明技术方案提供本发明技术方案提供一种光刻胶布胶系统，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶。

优选的，所述的记录模块包括CCD。

优选的，所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块。

优选的，所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。

优选的，所述的处理模块为光刻胶喷头。