[发明专利]一种钻石原石磨液水基清洗剂

说明书

本发明提供一种钻石原石磨液水基清洗剂，钻石原石研磨液专用的水基清洗剂包括第一清洗剂和第二清洗剂，第一清洗剂的组分包括：氢氧化钾、镀铬添加剂、胆胺、分散剂、复配表面活性剂，余量为水，第二清洗剂中的组分包括：弱酸、缓蚀剂、表面活性剂、纳米消泡剂、水溶性纳米二氧化硅，余量为水。制备方法为：按照比例加入镀铬添加剂、氢氧化钾和水，搅拌让其充分反应，然后依次加入胆胺、分散剂、复配表面活性剂，搅拌得到第一清洗剂，按照比例加入弱酸和水，搅拌均匀，依次加入缓蚀剂、表面活性剂、纳米消泡剂和水溶性纳米二氧化硅，搅拌至完全溶解，得到第二清洗剂，第一清洗剂和第二清洗剂组成钻石原石研磨液专用的水基清洗剂。

技术领域

本发明属于清洗剂材料技术领域，具体涉及一种钻石原石研磨液专用的水基清洗剂。

背景技术

清洗剂是用于清除污垢的化学品，通常分为工业清洗剂和日用清洗剂。在工业生产中，金属制件上常会留有灰尘、切削物、磨料、研磨液、手汗、盐迹、酸碱、动植物油脂和矿物油等残留物，随着科学技术的不断提高，残留物的品种越来越多，对清洗剂的清洗程度的要求也越来越高，既要将纳米级的粉末清除，也不能使金属制件生锈。水基清洗剂依据应用场合、洗涤对象以及残留物的性质，洗涤机理也比较复杂，一般的水基清洗剂包括表面活性剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂、溶剂和其他助剂，一般把洗涤过程分为三部分：一是浸透过程，二是扩张、分散、浮化和可溶化过程，三是除去过程。

目前，研磨液根据磨料的不同可分为钻石原石研磨液、二氧化硅研磨液、氧化铈研磨液等，钻石原石研磨液中含有许多细小的矿物质粉，这些矿物质粉在研磨过程中会残留在金属制件的表面，形成非常细小的纳米级粉末，如果不把这些细小的纳米级粉末及时清理，金属制件在使用的过程中，金属制件的表面会受到磨损，继而可能影响产品的性能，因此制备针对纳米级粉末残留物的清洗剂显得十分必要。

中国专利CN 105925389A公开的稀土研磨液专用清洗剂，主要包括NTA或者EDTA络合剂、烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙基氧化物、失水山梨醇酯表面活性剂、碳酸钠和碳酸氢钠的缓冲剂和水组成，制备的清洗剂分散性和吸附性好，清洗效果显著，对油脂的清洗率提高，对工件表面无明显的研磨液残留。但是针对纳米级的残留的清洗效果并不显著。中国专利CN 102816660A公开的一种纳米水基清洗剂及其制备方法，该纳米水基清洗剂包括碳酸钠、碳酸氢钠、氢氧化钠、三聚磷酸钠、磷酸二氢钠或者五水偏硅酸钠皂化剂、聚乙二醇、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基磺酸钠等表面活性剂、三胆胺等缓蚀剂、硅醚或者聚醚有机硅纳米消泡剂、水溶性纳米二氧化硅和水，该清洗剂的适用范围广泛，不含挥发性有机溶剂，清洗过程泡沫少、不辅食被清洗物件，但是很对细小的纳米级粉末的清洗能力依然有限。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种钻石原石研磨液专用的水基清洗剂及其制备方法，该水基清洗剂包括第一清洗剂和第二清洗剂，第一清洗剂的组分包括：氢氧化钾、复配络合剂、胆胺、分散剂、复配表面活性剂，余量为水，第二清洗剂中的组分包括：弱酸、缓蚀剂、表面活性剂、纳米消泡剂、水溶性纳米二氧化硅，余量为水。采用两种清洁剂，清洗效果更佳彻底，对细小的纳米级粉末的清除率高，且不对工件设备造成腐蚀和污染，清洗效果好。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：

一种钻石原石研磨液专用的水基清洗剂，所述钻石原石研磨液专用的水基清洗剂包括第一清洗剂和第二清洗剂，所述第一清洗剂的组分，按重量百分比计，包括：氢氧化钾3-10％、镀铬添加剂3-8％、胆胺1-5％、分散剂1-5％、复配表面活性剂3-7％，余量为水，所述镀铬添加剂为HEDP，所述胆胺为一胆胺，所述分散剂为聚马来酸盐，所述复配表面活性剂为RD129B。

作为上述技术方案的优选，所述第二清洗剂的使用在第一清洗剂之后。