[发明专利]光掩模及光掩模承载平台的维护方法

说明书

本发明公开一种光掩模及光掩模承载平台的维护方法，该光掩模可置放于曝光装置中的光掩模承载平台上，此光掩模包括一基板以及一反射结构。基板包括一主表面与至少一侧壁，且主表面与侧壁相接，其中主表面包括一图案区以及一周边区，周边区设置于图案区的一外侧。反射结构至少设置于侧壁表面或设置于主表面的周边区。

技术领域

本发明涉及一种光掩模及光掩模承载平台的维护方法，尤其是涉及一种能用于检测光掩模承载平台上的固定元件效能的光掩模及光掩模承载平台的维护方法。

背景技术

一般半导体元件需经繁复的半导体制作工艺所完成，其中芯片上的各种电路布局需以数道光刻制作工艺加以定义形成。在光刻制作工艺中，曝光步骤是由曝光装置所实施，其可将光掩模上的电路布局图转移至晶片上，其中曝光制作工艺的良率高低直接影响芯片的制造成本，其中曝光装置对曝光良率又有最直接的影响。在曝光制作工艺中，光掩模若发生任何微小的偏离都会干扰并影响到曝光结果，倘若电路布局图转移至晶片时失真，则会影像电路特性甚至产生缺陷，成为不良品导致良率降低。因外，在曝光装置运作时，如何减少光掩模的位置发生偏离以改善良率是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

发明内容

本发明提供了一种光掩模及光掩模承载平台的维护方法，用于检测光掩模承载平台上的固定元件的效能。

本发明的实施例提供一种光掩模，其可置放于曝光装置中的光掩模承载平台上，此光掩模包括一基板以及一反射结构。基板包括一主表面与至少一侧壁，主表面与侧壁相接，其中主表面包括一图案区以及一周边区，周边区设置于图案区的一外侧。反射结构设置于侧壁表面或设置于主表面的周边区。

本发明的实施例另提供一种光掩模承载平台的维护方法，其包括提供一光掩模，置放于曝光装置中的光掩模承载平台上，并以光掩模承载平台上的一固定元件将光掩模固定于光掩模承载平台上，其中光掩模承载平台为可移动式平台，而光掩模包括一基板以及一反射结构。基板包括一主表面与至少一侧壁，主表面与侧壁相接，其中主表面包括一图案区以及一周边区，周边区设置于图案区的一外侧。反射结构至少设置于侧壁表面或设置于主表面的周边区。进行一第一检测步骤，移动光掩模承载平台，并通过一激光光束照射反射结构以测量光掩模的一位置信息。进行一确认步骤，由位置信息判定光掩模在光掩模承载平台上是否发生位移，当光掩模发生位移时，则判定固定元件的效能不合格，以及当光掩模未发生位移时，则判定固定元件的效能合格。

附图说明

图1为本发明第一实施例的曝光装置的示意图；

图2为本发明第一实施例的光掩模的示意图；

图3为本发明第一实施例的光掩模承载平台的维护方法的步骤流程图；

图4为本发明第一实施例的变化实施例的光掩模承载平台的维护方法的步骤流程图；

图5为本发明第二实施例的光掩模的示意图；

图6为本发明第三实施例的光掩模的示意图；

图7为本发明第四实施例的光掩模的示意图；

图8为本发明第五实施例的光掩模的示意图。

符号说明

10 曝光装置

100 光源

102 光掩模承载平台

104 透镜系统

106 晶片承载平台

108 固定元件

110、1101、1102 干涉计

112 基板

114 主表面