[发明专利]一种用于零像散像差的双球面弯晶成像系统及其调节方法有效
申请号: | 201711063235.5 | 申请日: | 2017-11-02 |
公开(公告)号: | CN107807491B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 王瑞荣;安红海;舒桦;方智恒;贾果;谢志勇;王伟;熊俊;张帆;华能 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所 |
主分类号: | G03B42/02 | 分类号: | G03B42/02 |
代理公司: | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人: | 周涛 |
地址: | 201899 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 零像散像差 球面 成像 系统 及其 调节 方法 | ||
1.一种用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,其特征在于,该成像系统包括固定底板(2)、五维调节架Ⅰ(3)、球面凹晶(4)、五维调节架Ⅱ(5)、球面凸晶(6)、二维调节架Ⅰ(7)、五维调节架Ⅲ(9)、连杆(13)、长方体玻璃块(17)、底片室(23)、底片盒(24)、滤片框(25)、滤片(25-1)、底片(25-2)、挡光板(26)、五维调节架Ⅳ(27),所述球面凹晶(4)固定设置在五维调节架Ⅰ(3)上,球面凸晶(6)固定设置在五维调节架Ⅱ(5)上,长方体玻璃块(17)固定设置在五维调节架Ⅲ(9)上,连杆(13)的一端固定在固定底板(2)的下表面、另一端固定在五维调节架Ⅳ(27)上,底片室(23)固定设置在二维调节支架(7)上,所述五维调节架Ⅰ(3)、五维调节架Ⅱ(5)、五维调节架Ⅲ(9)依次固定在固定底板(2)上;
所述底片盒(24)的中心点在光源(1)中心和长方体玻璃块(17)中心点连线的延长线上,所述底片盒(24)信号接收面的法线方向与球面凸晶(6)反射光线一致,所述底片(25-2)位于底片盒(24)中,滤片(25-1)粘贴在滤片框(25)上,然后粘贴好滤片的滤片框置于底片盒(24)中与底片(25-2)叠合在一起组成记录系统,记录系统插入至底片室(23)中,且滤片(25-1)与底片(25-2)的中心点均在球面凸晶中心反射光线上。
2.根据权利要求1所述的用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,其特征在于,所述球面凹晶(4)所在的圆和球面凸晶(6)所在的圆为同心圆。
3.根据权利要求1所述的用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,其特征在于,所述球面凹晶(4)的曲率半径为R1,相应的布拉格角为θ1,所述球面凸晶(6)的曲率半径为R2,相应的布拉格角为θ2,所述球面凹晶、球面凸晶之间的曲率半径和布拉格角的约束关系为R1cosθ1=R2cosθ2。
4.根据权利要求3所述的用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,其特征在于,所述相应的布拉格角的取值范围为45°<θ1< 90°,0°<θ2 < 45°。
5.根据权利要求1-4任一所述的用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,其特征在于,所述球面凹晶(4)、球面凸晶(6)和底片盒(24)在物体的同侧,所述球面凹晶和球面凸晶中心连线与物体和像的连线垂直相交。
6.一种权利要求5所述的用于零像散像差的双球面弯晶成像系统的调节方法,其特征在于,该调节方法包括实验室离线调节和靶室在线调节。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所,未经中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711063235.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种背投拼接墙及其背投屏幕
- 下一篇:一种适用于曝光机的光源安装板排布结构