[发明专利]平衡质量装置与光刻系统

说明书

本发明提供了一种平衡质量装置与光刻系统，所述的装置，包括：质量本体和缓冲结构，所述质量本体连接一曝光台，所述缓冲结构连接于所述质量本体与整机框架之间；所述缓冲结构用于，在所述质量本体相对预设初始位置发生偏离时，为所述质量本体提供与所述偏离相抵触的作用力，所述预设初始位置相对于所述整机框架的位置为固定的。利用缓冲结构的机械方式，相较于利用控制器和电机的方式，其成本较低。

技术领域

本发明涉及光刻领域，尤其涉及一种平衡质量装置与光刻系统。

背景技术

光刻系统中，曝光台加减速驱动时，会对基础框架产生倾翻力。作用于基础框架的倾翻力会使得框架产生较大的运动，该运动通过主动振动隔离系统传递至测量框架，会导致测量框架发生运动，而测量框架的运动将会干扰激光干涉仪等设备，最终影响工件台、掩模台和镜面之间的误差，从而导致套准精度(Overlay)和关键尺寸(CD，Criticaldimension)误差加大。同时，硅片传输、掩模传输和照明单元的位置精度也会因为基础框架运动而下降。

现有的相关技术中，可以利用平衡装置降低甚至消除倾翻力的作用，具体的，平衡装置可以包括质量本体、运动驱动装置、防飘电机和控制器等，曝光台通过运动驱动装置连接于质量本体，曝光台连接于运动驱动装置的动子，运动驱动装置的定子连接于质量本体，质量本体连接于基础框架。

其中，曝光台运动时，运动驱动装置驱动动子及曝光台运动，会因运动产生反作用力，从而带来定子与质量本体的偏移，控制器可以主动通过防飘电机调整质量本体的位置，从而达到纠偏作用。此外，控制器还可以主动通过防飘电机控制质量本体在初始化时回归初始位置。

然而，采用控制器主动控制防飘电机，从而调整质量本体位置的方案成本较大，也不易于控制。

发明内容

本发明提供了一种平衡质量装置与光刻系统，以解决成本较大，且不易控制的问题。

根据本发明的第一方面，提供了一种平衡质量装置，包括：质量本体和缓冲结构，所述质量本体连接一曝光台，所述缓冲结构连接于所述质量本体与整机框架之间；

所述缓冲结构用于，在所述质量本体相对预设初始位置发生偏离时，为所述质量本体提供与所述偏离相抵触的作用力，所述预设初始位置相对于所述整机框架的位置为固定的。

可选的，所述缓冲结构包括N个缓冲单元，所述N个缓冲单元分布于所述质量本体的外周，所述缓冲单元分别连接所述质量本体的外周与所述整机框架，其中,N为大于或等于2的整数。

可选的，所述质量本体的外周包括呈多边形围合的L个侧面；所述缓冲单元对应连接于相邻两个所述侧面的接合处，其中，L为大于或等于3的整数。

可选的，所述缓冲单元包括M个缓冲部件，其中，M为大于或等于1的整数；所述M个缓冲部件的第一端连接于对应的所述接合处，所述M个缓冲部件的第二端连接所述整机框架；

其中，若M大于或等于2，则：所述M个缓冲部件的分别沿不同方向设置，以在所述质量本体相对预设初始位置发生偏离时提供不同方向的作用力。

可选的，所述多边形为矩形，且M为2，所述M个缓冲部件包括第一缓冲部件和第二缓冲部件；在所述质量本体处于所述预设初始位置时，所述第一缓冲部件沿第一方向设置，所述第二缓冲部件沿第二方向设置；所述第一方向为所述矩形的长度方向，所述第二方向为所述矩形的宽度方向。

可选的，所述多边形为矩形，且M为1，在所述质量本体处于所述预设初始位置时，所述缓冲部件沿第三方向设置，所述第三方向与所述矩形的对角线方向，或者所述第三方向与所述矩形的长度方向或宽度方向的锐角夹角为45度。