[发明专利]一种防止氟掺杂硅氧化膜表面产生晶状缺陷的方法

权利要求书

1.一种防止氟掺杂硅氧化膜表面产生晶状缺陷的方法，其特征在于，所述方法包括：

提供晶圆，在所述晶圆表面上沉积氟掺杂硅氧化膜；以及

采用弱酸溶液对所述晶圆的表面执行清洗步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述弱酸溶液的PH值介于5-7之间。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述弱酸溶液的PH值介于6-7之间。

4.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述弱酸溶液为碳酸溶液。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述氟掺杂硅氧化膜包括氟硅玻璃或SiON-F。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述晶圆置于晶圆清洗装置中以执行所述清洗步骤。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述晶圆清洗装置包括晶圆旋干机、晶圆清洗槽或晶圆擦洗装置。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述氟掺杂硅氧化膜为金属间介电绝缘层。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述沉积为化学气相沉积。