[发明专利]后台应用的清理方法、装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种后台应用的清理方法，其特征在于，包括：

获取应用的多个第一类样本向量和多个第二类样本向量，包括：采集应用的多维特征信息作为样本向量，构成所述应用的样本集；对所述样本集中的样本向量进行标记，得到每个样本向量的样本标签，所述样本标签包括可清理类和不可清理类；根据每个样本向量的样本标签，确定所述样本集中的第一类样本向量和第二类样本向量；其中，所述第一类样本向量为可清理类的样本向量，所述第二类样本向量为不可清理类的样本向量；

基于线性判别分析算法对所述第一类样本向量和所述第二类样本向量进行计算，得到最佳投影向量；

当应用进入后台后，利用所述最佳投影向量对所述应用的当前特征信息进行投影，得到第一投影值，包括：计算最佳投影向量的转置与所述应用的当前特征信息的乘积，得到第一投影值；利用所述最佳投影向量对每个第一类样本向量进行投影，得到多个第二投影值，以及利用所述最佳投影向量对每个第二类样本向量进行投影，得到多个第三投影值；

根据所述第一投影值、第二投影值和第三投影值生成预测结果，所述预测结果包括可清理应用和不可清理应用；

根据所述预测结果确定是否可以清理应用。

2.根据权利要求1所述的清理方法，其特征在于，所述基于线性判别分析算法对所述第一类样本向量和所述第二类样本向量进行计算，包括：

根据所述第一类样本向量和第二类样本向量，计算类间离散度矩阵和总的类内离散度矩阵；

计算所述类间离散度矩阵与总的类内离散度矩阵类的比值，得到投影矩阵；

计算所述投影矩阵的最大特征值对应的特征向量，得到最佳投影向量。

3.根据权利要求2所述的清理方法，其特征在于，所述根据所述第一类样本向量和第二类样本向量，计算类间离散度矩阵和总的类内离散度矩阵，包括：

分别计算所述第一类样本向量和第二类样本向量的均值向量；

根据所述第一类样本向量的均值向量计算第一类内离散度矩阵，根据所述第二类样本向量的均值向量计算第二类内离散度矩阵；

根据所述第一类内离散度矩阵和第二类内离散度矩阵，计算总的类内离散度矩阵；

根据所述第一类样本向量的均值向量和第二类样本向量的均值向量，计算类间离散度矩阵。

4.根据权利要求3所述的清理方法，其特征在于，所述根据所述第一类样本向量的均值向量计算第一类内离散度矩阵，根据所述第二类样本向量的均值向量计算第二类内离散度矩阵，包括：

根据第一公式分别计算所述第一类内离散度矩阵和第二类内离散度矩阵，所述第一公式具体为：

其中，i＝1或2，S_i表示第i类内离散度矩阵，n_i表示第i类样本向量的总数量，x_ij表示第j个第i类样本向量，m_i表示第i类样本向量的均值向量，T表示(x_ij-m_i)的转置；

所述根据所述第一类内离散度矩阵和第二类内离散度矩阵，计算总的类内离散度矩阵，包括：根据第二公式计算总的类内离散度矩阵，所述第二公式具体为：

S_w＝S₁+S₂，其中S_w表示总的类内离散度矩阵，S₁表示第一类内离散度矩阵，S₂表示第二类内离散度矩阵。

5.根据权利要求3所述的清理方法，其特征在于，所述根据所述第一类样本向量的均值向量和第二类样本向量的均值向量，计算类间离散度矩阵，包括：

根据第三公式计算所述类间离散度矩阵，所述第三公式具体为：

S_b＝(m₁-m₂)(m₁-m₂)^T，其中S_b表示类间离散度矩阵，m₁表示第一类样本向量的均值向量，m₂表示第二类样本向量的均值向量，T表示(m₁-m₂)的转置。