[发明专利]光阻液储存桶及光阻涂布机在审
| 申请号: | 201711043807.3 | 申请日: | 2017-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN107583830A | 公开(公告)日: | 2018-01-16 |
| 发明(设计)人: | 吴利峰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | B05C11/11 | 分类号: | B05C11/11;B05C11/10 |
| 代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人: | 孙伟峰,顾楠楠 |
| 地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光阻液 储存 光阻涂布机 | ||
技术领域
本发明涉及一种显示面板生产技术,特别是一种光阻液储存桶集光阻涂布机。
背景技术
在TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)的CF(彩色滤光片)涂布工艺中,涂布机的光阻使用都是需要连续补给的,一般一桶光阻耗用完后需要切换至另一桶或进行更换新的光阻桶进行供给,不仅更换手续繁琐,如果更换过程存在操作不当还会有断料的风险,而且会直接影响涂布的品质,使玻璃基板上残留有光阻或气泡,这样就导致玻璃基板上产生各类宏观和微观缺陷,影响整张玻璃基板的良品率,另外,传统的涂布设备光阻更换方式还会牵涉到上一桶残余光阻的浪费,有时往往为了节约光阻量还要将上一桶光阻倒入到新的光阻桶中进行再利用,整个过程暴露在外部环境下可能会对光阻的品质产生影响,进而导致涂布不良的产生。
随着高精细LTPS(低温多晶硅)等技术的发展,产品微观缺陷的控制要求越来越严格,影响微观缺陷的非常重要的一个环节就是涂布光阻更换过程的品质保证,传统涂布光阻更换过程可能导致的气泡的产生,会直接造成光阻在玻璃基板上形成bubble(气泡)缺陷,这样会无形增加修补产线的负荷,另外如果bubble缺陷较多,也会造成产品直接报废,造成增加生产成本。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明提供一种光阻液储存桶集光阻涂布机,实现光阻液的自动补充,节省更换时间和人力。
本发明提供了一种光阻液储存桶,包括桶本体,设置在桶本体内的至少两个隔板,所述隔板与所述桶本体活动连接,所述隔板将桶本体的内腔划分为至少三个腔室,当其中一块隔板向上移动时,位于该隔板两侧的腔室相互连通;位于桶本体其中最外一侧的腔室上设有光阻供液管、CDA压力管、脱气管,所述光阻供液管的一端伸出桶本体外,另一端延伸至该腔室的靠近底部处,所述光阻供液管、CDA压力管、脱气管均与桶本体的内腔壁之间密封连接;位于桶本体另一最外一侧的腔室上设有与桶本体密封连接的光阻供给管;位于最外两侧的腔室之间的腔室上设有与存储桶密封连接的加减压管,通过对具有加减压管的腔室进行加压或减压,使具有加减压管的腔室中光阻液液面以上的压力与相邻两侧腔室中光阻液液面以上的压力相等,从而驱动相应位置处的隔板上升,实现补液。
进一步地,所述桶本体内设有两块活动连接的隔板,两块隔板将桶本体的内腔划分为三个腔室,分别为供出室、缓冲室、供入室;所述光阻供液管设于供出室内,CDA压力管以及脱气管设于桶本体位于供出室的位置上,光阻供给管设于桶本体位于供入室的位置上;加减压管设于桶本体上位于缓冲室的位置上。
进一步地,所述桶本体的相对两侧的内腔壁上设有与隔板位置相对应的滑槽,所述隔板的相对两侧插入滑槽中。
进一步地,所述滑槽与隔板之间设有密封条。
进一步地,所述隔板与桶本体内腔壁接触的两侧之间设于密封条,所述密封条固定于桶本体的内腔壁上。
进一步地,所述隔板的高度大于桶本体的高度,在存储桶的顶部设有伸出孔,隔板的上端从伸出孔中伸出桶本体外。
进一步地,所述脱气管上设有阀门。
进一步地,所述阀门为电磁阀。
进一步地,所述供出室、缓冲室以及供入室中设有液位传感器。
本发明还提供了一种光阻涂布机,包括所述的光阻液储存桶。
本发明与现有技术相比,通过在桶本体中设置隔板,从而将桶本体的内腔划分为多个腔室,通过对中间腔室的加压或减压,使中间的腔室的液面以上压力与相邻的腔室的液面以上压力相同,实现推动隔板自动上升,从而进行补液;与传统的更换光阻痛的方式对比,大大节省了人力更换的时间,避免了光阻的浪费,而且桶本体还可以循环使用,避免了材料的浪费,同时还避免了瑕疵玻璃基板的出现,从而提高产品良率。
附图说明
图1-1是本发明的内部结构示意图一;
图1-2是本发明的内部结构示意图二;
图2是隔板与桶本体的第一种连接方式的示意图;
图3是隔板与桶本体的第二种连接方式的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
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