[发明专利]一种真空式吸盘装置在审
申请号: | 201711042013.5 | 申请日: | 2017-10-31 |
公开(公告)号: | CN107785300A | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 孙建兵 | 申请(专利权)人: | 南通皋鑫电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/329 |
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地址: | 226500 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 吸盘 装置 | ||
1.一种真空式吸盘装置,其特征在于,它包括真空吸放盘、真空控制阀以及真空泵;所述真空吸放盘包括盘架以及盘头,盘头为长方体状,设置在盘架上,在盘头上表面上纵向均匀设置有若干圆弧形槽,槽之间相互平行,且槽的半径与引线直径相当,在槽的中间位置开有圆气孔A,圆气孔A贯穿盘头,连通盘架中间的圆气孔B,圆气孔B贯穿盘架一端,通过真空吸气管连通真空泵,且在真空吸气管上安装有真空控制阀;所述盘架两侧对称设置有手握处。
2.根据权利要求1所述的一种真空式吸盘装置,其特征是所述圆弧形槽的数量与二极管封装料架模齿的数量相当,且槽的位置与二极管封装料架模齿的位置对应。
3.根据权利要求1所述的一种真空式吸盘装置,其特征在于一种自控装置,它包括包括左支架、右支架、横梁、导轨、滑块、气缸、气缸支座、丝杠以及电机,在左支架、右支架上设置有横梁,支撑在横梁两端,左支架、右支架与横梁之间焊接连接,在横梁下表面两侧设置有导轨,导轨与滑块之间滑动配合,且滑块固定安装在气缸支座上,气缸支座上固定安装有气缸,气缸活塞杆顶端倒置安装有真空吸放盘,在两侧导轨之间安装有丝杠,位于气缸支座与横梁之间,在丝杠上通过丝杠螺母固定安装有气缸之座,在丝杠一端安装有电机。
4.根据权利要求3所述的一种真空式吸盘装置,其特征是所述自控装置还包括控制箱,固定安装在右支架上。
5.根据权利要求3所述的一种真空式吸盘装置,其特征是所述左支架与与右支架之间还设置有引线盒以及二极管封装料架模,与真空吸放盘位置对应。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造