[发明专利]一种消除颗粒物的化学组分影响的动态校准方法及监测仪在审
申请号: | 201711041271.1 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN107884322A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 蒲勇;游传远;李勇 | 申请(专利权)人: | 重庆广睿达科技有限公司 |
主分类号: | G01N15/06 | 分类号: | G01N15/06 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 尹丽云 |
地址: | 401120 重庆市渝北区*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 消除 颗粒 化学 组分 影响 动态 校准 方法 监测 | ||
1.一种消除颗粒物的化学组分影响的动态校准方法,其特征在于,包括:
采集环境参数和被测量颗粒物的质量浓度值;
建立转换模型;
根据测量环境确定转换系数,所述转换系数包括化学组分、温度和湿度对质量浓度影响的转换系数;
通过所述转换模型对所述质量浓度值进行动态校准,获取校准后的质量浓度。
2.根据权利要求1所述的消除颗粒物的化学组分影响的动态校准方法,其特征在于,所述转换模型为:
Mc=Kx*Cx+KT*T+KRH*RH+B
Mx=Kenv*Mc
其中,
Cx为采集的被测量颗粒物的质量浓度值;
Kx为测量环境下对Cx质量浓度影响的修正系数;
KT为在测量环境下温度对Cx质量浓度影响的温度转换系数;
KRH为在测量环境下湿度对Cx质量浓度影响的湿度转换系数;
Mc为在测量环境下温湿度对测量过程影响补偿后的目标质量浓度;
Kenv为测量环境下化学组分对测量过程影响的环境转换系数;
Mx为在测量环境下化学组分对Mc补偿后的目标质量浓度
T为测量环境下的温度值,单位℃;
RH为测量环境下的相对湿度值;
B为在测量环境下光散射颗粒物监测仪对温湿度影响的基底值。
3.根据权利要求2所述的消除颗粒物的化学组分影响的动态校准方法,其特征在于,测量待测环境的温度值和相对湿度值,通过三参数回归法获取测量环境下对Cx质量浓度影响的修正系数、温度对Cx质量浓度影响的温度转换系数、湿度对Cx质量浓度影响的湿度转换系数以及测量环境下光散射颗粒物监测仪对温湿度影响的基底值,通过单参数回归法获取测量环境下化学组分对测量过程影响的环境转换系数,根据转换系数获取校准后的质量浓度。
4.根据权利要求3所述的消除颗粒物的化学组分影响的动态校准方法,其特征在于,预先在待测测量环境中进行采样测量,实时记录测量的质量浓度Cx、实时温度以及实时相对湿度,根据记录数据通过所述转换模型进行拟合回归,获取待测测量环境下对Cx质量浓度影响的修正系数、温度对Cx质量浓度影响的温度转换系数、湿度对Cx质量浓度影响的湿度转换系数以及光散射监测仪对温湿度影响的基底值;
在被测化学组分环境中,根据多次实时记录的测量质量浓度Mc和标准质量浓度Mx,通过Mx=Kenv*Mc+B转换关系进行拟合回归,获取测量环境下化学组分对测量过程影响的环境转换系数。
5.一种消除颗粒物的化学组分影响的动态校准监测仪,其特征在于,包括:
采集单元,用于采集环境参数和颗粒物感应信号,所述环境参数包括被测环境的温度和湿度;
处理单元,用于对采集的数据进行处理,并建立转换模型;
中央运算控制单元,用于计算被测量颗粒物的质量浓度值;
动态校准单元,用于根据测量环境确定转换系数,通过所述转换模型对所述质量浓度值进行动态校准,获取校准后的质量浓度,所述转换系数包括化学组分、温度和湿度对质量浓度影响的转换系数。
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