[发明专利]一种促进大豆幼苗生长的种植方法在审

专利信息
申请号: 201711037455.0 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN107873456A 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 胡本号 申请(专利权)人: 蚌埠农兴现代农业专业合作社
主分类号: A01G22/40 分类号: A01G22/40;A01G7/02;A01G7/06;C05G1/00
代理公司: 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙)34129 代理人: 李显锋
地址: 233000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 促进 大豆 幼苗 生长 种植 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于农业种植技术领域,具体涉及一种促进大豆幼苗生长的种植方法。

背景技术

大豆,通称黄豆。原产中国,中国各地均有栽培,亦广泛栽培于世界各地。大豆是中国重要粮食作物之一,已有五千年栽培历史,古称菽,中国东北为主产区,是一种其种子含有丰富植物蛋白质的作物。大豆最常用来做各种豆制品、榨取豆油、酿造酱油和提取蛋白质。豆渣或磨成粗粉的大豆也常用于禽畜饲料。

现有大豆种植方法中大豆幼苗生长速度较慢,导致大豆收获周期延长,由于大量大豆收获周期延长,集中到一个时间段,导致大豆滞销,不利于大豆的经营,如何促进大豆生长,缩短大豆收获周期,是所要解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的是针对现有的问题,提供了一种促进大豆幼苗生长的种植方法。

本发明是通过以下技术方案实现的:

一种促进大豆幼苗生长的种植方法,在大豆植株生长至15-20cm时,每隔3-5天采用质量分数为镁盐与铁盐混合水溶液对大豆植株进行叶面喷洒,喷洒时间为早上7点,每天上午进行1次50-80min的遮光处理,同时调节温度至26-28℃,调节大豆植株生长环境内的二氧化碳浓度至0.0351-0.0359%;每天下午进行1次40-60min的遮光处理,同时调节温度至28-30℃,调节环境内的二氧化碳浓度至0.0452-0.0463%,所述遮光处理为采用遮光膜对大豆植株进行遮光处理,进行遮光处理后大豆植株的受到的光照强度为正常光照强度的30-35%。

进一步的,所述镁盐与铁盐混合水溶液中镁盐浓度为1.235mol/L,铁盐浓度为0.283mol/L。

进一步的,所述水中铁盐为氯化铁、硫酸铁或硝酸铁中的任一种或多种混合。

进一步的,所述镁盐为氯化镁、硝酸镁或硫酸镁中的任一种或多种混合。

进一步的,所述遮光膜为聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺薄膜中含有其质量3.5%的铝粉。

进一步的,所述铝粉粒度为800目。

进一步的,所述正常光照强度为4万lx。

进一步的,所述每天上午进行的遮光处理,处理时间为上午9点开始;所述每天下午进行的遮光处理,处理时间为下午15点开始。

本发明相比现有技术具有以下优点:本发明通过对大豆幼苗进行一定时间的弱光处理,能够使得大豆幼苗在一定时间的弱光处理下协调各器官物质分配,通过增加主茎投入获得更多的光照,此外,由于大豆植株的叶片担负着大豆植株生活中最重要的生理功能-光合作用,是植物进化过程中对环境变化较为敏感且可塑性较大的器官,在不同环境的选择压力下已经形成各种适应类型,其结构特征能够有效的体现环境因子的影响和大豆对弱光环境的适应,通过每天上午与每天下午一定时间内对大豆植株的弱光处理协同镁盐与铁盐混合水溶液的处理作用和温度与环境中二氧化碳浓度的提高作用,能够有效的刺激大豆植株叶片增厚和内表面积增大,通过叶片的增厚与内表面积增大能够使得叶片拥有较高的光合速率,同时,通过镁盐与铁盐混合水溶液的处理作用能够有效的促进叶片中光合色素的合成,尤其是叶绿素的合成和积累明显,从而,能够大幅度的提高大豆植株的生长速度,缩短大豆的收获周期,使得大豆能够提高上市,提高经济效益。

具体实施方式

实施例1

一种促进大豆幼苗生长的种植方法,在大豆植株生长至15cm时,每隔3天采用质量分数为镁盐与铁盐混合水溶液对大豆植株进行叶面喷洒,喷洒时间为早上7点,每天上午进行1次50min的遮光处理,同时调节温度至26℃,调节大豆植株生长环境内的二氧化碳浓度至0.0351%;每天下午进行1次40min的遮光处理,同时调节温度至28℃,调节环境内的二氧化碳浓度至0.0452%,所述遮光处理为采用遮光膜对大豆植株进行遮光处理,进行遮光处理后大豆植株的受到的光照强度为正常光照强度的30%。

进一步的,所述镁盐与铁盐混合水溶液中镁盐浓度为1.235mol/L,铁盐浓度为0.283mol/L。

进一步的,所述水中铁盐为氯化铁、硫酸铁或硝酸铁中的任一种或多种混合。

进一步的,所述镁盐为氯化镁、硝酸镁或硫酸镁中的任一种或多种混合。

进一步的,所述遮光膜为聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺薄膜中含有其质量3.5%的铝粉。

进一步的,所述铝粉粒度为800目。

进一步的,所述正常光照强度为4万lx。

进一步的,所述每天上午进行的遮光处理,处理时间为上午9点开始;所述每天下午进行的遮光处理,处理时间为下午15点开始。

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