[发明专利]一种用于高双折射率液晶的含侧氟型二苯乙炔稀释剂及其合成方法

权利要求书

1.一种用于高双折射率液晶的含侧氟型二苯乙炔稀释剂，其特征在于该稀释剂的结构式如下所示：

式中X代表O或CH₂，R代表C₃烷基。

2.一种权利要求1所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其中X代表O时，其特征在于：

（1）在惰性气体保护下，将式I所示的对烷基溴苯、2-甲基-3-丁炔-2-醇、四(三苯基膦)合钯、碘化亚铜、三苯基膦、三乙胺在回流条件下搅拌反应10～12小时，分离纯化，得到式II化合物；

（2）以二氯甲烷为溶剂，在惰性气体保护下，将4-溴-2-氟苯酚、3,4-2H-二氢吡喃、4-甲基苯磺酸吡啶鎓在常温条件下搅拌反应3～5小时，分离纯化，得到4-[(2-四氢吡喃)氧]-2-氟溴苯；

（3）以甲苯与水的体积比为5:1的混合液为溶剂，在惰性气体保护下，将式II化合物、四正丁基溴化铵、氢氧化钾在50～70℃下反应30～60分钟，然后加入4-[(2-四氢吡喃)氧]-2-氟溴苯和四(三苯基膦)合钯，在70～90℃下反应10～12小时，分离纯化，得到式III化合物；

（4）以无水乙醇为溶剂，将式III化合物与4-甲基苯磺酸吡啶鎓在50～70℃下反应2～4小时，分离纯化，得到式IV化合物；

（5）以四氢呋喃与水体积比为4∶1的混合液为溶剂，将式IV化合物与3-溴丙烯、碳酸钾在60～70℃下反应3～5小时，分离纯化，得到式V所示的用于高双折射率液晶的含侧氟型二苯乙炔稀释剂。

3.根据权利要求2所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其特征在于：在步骤（1）中，所述对烷基溴苯与2-甲基-3-丁炔-2-醇、四(三苯基膦)合钯、碘化亚铜、三苯基膦、三乙胺的摩尔比为1:1.5～2:0.005～0.01:0.01～0.02:0.02～0.05:10～15。

4.根据权利要求2所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其特征在于：在步骤（2）中，所述4-溴-2-氟苯酚与3,4-2H-二氢吡喃、4-甲基苯磺酸吡啶鎓的摩尔比为1:1.5～2:0.08～0.1。

5.根据权利要求2所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其特征在于：在步骤（3）中，所述式II化合物与四正丁基溴化铵、氢氧化钾、4-[(2-四氢吡喃)氧]-2-氟溴苯、四(三苯基膦)合钯的摩尔比为1:0.08～0.10:1.5～3:0.8～1.0:0.03～0.05。

6.根据权利要求2所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其特征在于：在步骤（4）中，所述式III化合物与4-甲基苯磺酸吡啶鎓的摩尔比为1:0.5～0.8。

7.根据权利要求2所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其特征在于：在步骤（5）中，所述式IV化合物与3-溴丙烯、碳酸钾的摩尔比为1:1.5～2:2～3。

8.一种权利要求1所述的含侧氟型二苯乙炔稀释剂的制备方法，其中X代表CH₂时，其特征在于：

（1）在惰性气体保护下，将式I所示的对烷基溴苯、2-甲基-3-丁炔-2-醇、四(三苯基膦)合钯、碘化亚铜、三苯基膦、三乙胺在回流条件下搅拌反应10～12小时，分离纯化，得到式II化合物；

（2）以甲苯与水的体积比为5:1的混合液为溶剂，在惰性气体保护下，将式II化合物、四正丁基溴化铵、氢氧化钾在50～70℃下反应30～60分钟，然后加入3-氟-4-溴苯丙醛缩醛和四(三苯基膦)合钯，在70～90℃下反应10～12小时，分离纯化，得到式VI化合物；

（3）以四氢呋喃为溶剂，在惰性气体保护下，将式VI化合物与甲酸按摩尔比为1:300～350，在50～70℃下反应5～8小时，分离纯化，得到式VII化合物；

（4）以四氢呋喃为溶剂，在惰性气体保护下，将溴甲基三苯基膦盐、叔丁醇钾在-15～-10℃下反应20～40分钟，然后滴加式VII化合物的四氢呋喃溶液，滴加完后升至室温，分离纯化，得到式VIII所示的用于高双折射率液晶的含侧氟型二苯乙炔稀释剂。