[发明专利]一种防雾自洁的新型纳米材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711025710.X 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107570134A 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 邓怡 申请(专利权)人: 成都瞬科仪器仪表有限公司
主分类号: B01J21/08 分类号: B01J21/08;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 代理人: 马碧娜
地址: 610000 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 纳米 材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种纳米材料,具体涉及一种防雾自洁的新型纳米材料的制备方法。

背景技术

防雾、自洁纳米材料的制备对于我国经济的可持续性发展来说至关重要。随着防雾、自洁纳米材料需求的日益突出,市场上出现一些防雾、自洁产品。然而,大多数防雾、自洁产品不仅存在着制作工艺复杂,稳定性差等问题,而且与基材之间的粘接性差,容易脱落。因此,难以保持长久防雾、自洁的效果。基于上述防雾、自洁产品存在的问题,我们研制了一种具有防雾能力强,自洁效果持久,施工简单,成本低等优点的防雾、自洁纳米材料。

发明内容

本发明目的在于提供一种防雾自洁的新型纳米材料的制备方法,以解决上述缺陷。

本发明通过下述技术方案实现:

一种防雾自洁的新型纳米材料的制备方法,包括以下步骤:

(1)将钛酸丁酯在搅拌下滴加到无水乙醇中,充分搅拌然后向其依次加入硝酸、去离子水和醋酸,继续搅拌,最终得到稳定的二氧化钛溶胶;

(2)将得到的二氧化钛溶胶进行退火处理,退火温度为510℃,保温时间9小时,然后随炉冷却,得到二氧化钛粉末,球磨30小时,粉末样品中的二氧化钛颗粒尺寸为4nm,称取二氧化钛粉末样品,将其分散到去离子水中,得到二氧化钛溶液;

(3)将正硅酸乙酯在氨水催化下水解,制备出含有粒径为25nm的二氧化硅球形纳米粒子的悬浮液,在室温搅拌下并滴加盐酸溶液,陈化30小时,变成凝胶后放入干燥箱中进行干燥,再将干燥样品进行退火处理,退火温度为510℃,保温时间9小时,然后随炉冷却,得到二氧化硅粉末,球磨20小时,粉末样品中的二氧化硅颗粒尺寸在10nm以下;

(4)将得到二氧化钛溶液加入溶剂中,充分搅拌,再加入二氧化硅,在695℃温度下搅拌混合,得到溶液体系;

(5)在695℃温度下,在溶液体系中加入碱性催化剂,使溶液体系pH值为11;

(6)在步骤(5)中再加入氟烷基硅烷、钛酸酯偶联、乙二醇、聚乙二醇,在50-55℃温度下继续搅拌反应5h;

(7)在步骤(6)加入中和试剂,使溶液pH值为6.5,过滤反应产物。

所述步骤(4)和步骤(5)中温度为70℃。所述中和试剂为氯化铵和乙酸。所述溶剂包括异丙醇或正丁醇或乙二醇乙醚中的一种。

本发明与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果:

本发明纳米二氧化钛与纳米二氧化硅复合,该复合纳米材料不仅保持了原有二氧化钛的光催化和超亲水性能,而且提高了复合纳米材料与基材之间的粘接性,保证了基材上防雾、自洁纳米材料的牢固性和耐磨性;本发明制备工艺简单,便于操作。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施例,对本发明作进一步的详细说明,本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明,并不作为对本发明的限定。

实施例1

本发明一种防雾自洁的新型纳米材料的制备方法,将钛酸丁酯在搅拌下滴加到无水乙醇中,充分搅拌然后向其依次加入硝酸、去离子水和醋酸,继续搅拌,最终得到稳定的二氧化钛溶胶。将得到的二氧化钛溶胶进行退火处理,退火温度为500℃,保温时间6小时,然后随炉冷却,得到二氧化钛粉末,球磨30小时,粉末样品中的二氧化钛颗粒尺寸为4nm,称取二氧化钛粉末样品,将其分散到去离子水中,得到二氧化钛溶液;将正硅酸乙酯在氨水催化下水解,制备出含有粒径为25nm的二氧化硅球形纳米粒子的悬浮液,在室温搅拌下并滴加盐酸溶液,陈化30小时,变成凝胶后放入干燥箱中进行干燥,再将干燥样品进行退火处理,退火温度为500℃,保温时间6小时,然后随炉冷却,得到二氧化硅粉末,球磨20小时,粉末样品中的二氧化硅颗粒尺寸在10nm以下。

将得到二氧化钛溶液加入溶剂中,充分搅拌,再加入二氧化硅,在72℃温度下搅拌混合,得到溶液体系;保持所述温度并加入碱性催化剂,使溶液体系pH值为11,再加入氟烷基硅烷、钛酸酯偶联、乙二醇、聚乙二醇,在52℃温度下继续搅拌反应5h,得到透明溶液;加入中和试剂,使溶液pH值为6.5,过滤反应产物得到本发明的纳米材料。

以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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