[发明专利]湿法剥离设备及其剥离方法

说明书

技术领域

本发明属于液晶面板加工技术领域，具体来讲，涉及一种用于去除基板上的光刻胶的湿法剥离设备，以及基于该湿法剥离设备的剥离方法。

背景技术

在液晶面板的制作过程中，一般需要使用光刻胶以形成预定目的的掩膜，而在制作完成其他元件后，需要对基板上的光刻胶掩膜进行去除。一般采用湿法去除，湿法去除需要基于湿法剥离设备，光刻胶在该湿法剥离设备中在剥离液的浸润、膨胀和溶解过程中得以去除，再经由水洗将基板表面残留的剥离液去除并干燥基板。

目前常用的溶剂系的剥离液中包括乙醇胺，基板剥离后进行水洗时，由于残留在基板表面的剥离液中的乙醇胺溶于水，并生成碱性物质，将造成基板上其他铝质元件的腐蚀现象。该过程如下式所示：

碱性物质生成：HOCH₂CH₂NH₂+H₂O＝HOCH₂CH₂NH₃⁺+OH^-

Al制元件腐蚀：2Al+2H₂O+2OH^-＝2AlO₂^-+3H₂↑

最终将直接影响到产品的电性并形成mura(即显示器亮度不均匀、造成各种痕迹的现象)，导致产品良率降低。

发明内容

为解决上述现有技术存在的问题，本发明提供了一种湿法剥离设备以及基于该湿法剥离设备的剥离方法，该湿法剥离设备能够有效避免水洗残留的剥离液时与剥离液反应，从而腐蚀基板上其他元件的问题。

为了达到上述发明目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种湿法剥离设备，用于湿法去除基板上的光刻胶；所述湿法剥离设备包括依次连通设置的入口单元、剥离单元、置换单元、水洗单元、干燥单元和出口单元；其中，所述置换单元提供置换液冲洗所述基板，以置换去除所述基板经所述剥离单元后残留的剥离液。

进一步地，所述剥离液包括二甲基亚砜和乙醇胺。

进一步地，所述置换单元包括入口液刀和出口风刀；所述置换液为二甲基亚砜溶液，所述入口液刀连接所述置换液的供给端，所述出口风刀用以去除所述基板经所述入口液刀后残留的置换液。

进一步地，所述置换单元还包括置换液收集端，所述置换液收集端连通所述供给端，以将经所述出口风刀吹落的置换液返回至所述供给端。

进一步地，所述置换单元还包括夹设在所述入口液刀和所述出口风刀之间的喷雾喷嘴，所述喷雾喷嘴用以初步去除所述基板经所述入口液刀后残留的置换液。

进一步地，所述置换单元还包括置换液收集端，所述置换液收集端连通所述供给端，以将经所述喷雾喷嘴吹落的置换液返回至所述供给端。

进一步地，所述置换液中二甲基亚砜的纯度不低于99％。

进一步地，所述湿法剥离设备还包括连通在所述入口单元和所述剥离单元之间的缓冲单元，所述缓冲单元用以抑制所述剥离单元内的剥离液蔓延至所述入口单元。

本发明的另一目的还在于提供一种湿法剥离光刻胶的方法，所述方法基于如上任一所述的湿法剥离设备，所述方法包括步骤：

S1、将具有光刻胶的基板由所述入口单元传输至所述剥离单元，所述光刻胶在所述剥离单元中剥离液的浸润、膨胀和溶解作用下被去除；

S2、将所述基板由所述剥离单元传输至所述置换单元，所述置换单元中的置换液冲洗去除残留在所述基板上的剥离液；

S3、将经过置换的基板由所述置换单元依次传输至水洗单元、干燥单元进行水洗和干燥，并经出口单元离开所述湿法剥离设备。

本发明通过在剥离单元和水洗单元之间设置置换单元，由此获得用于湿法去除光刻胶的湿法剥离设备；该湿法剥离设备中的置换单元能够提供置换液，以去除基板经剥离单元后残留在表面的剥离液，从而当对基板进行水洗时，即可免于剥离液中一般存在的乙醇胺遇水生成碱性物质，并继而腐蚀基板上其他铝质元件的问题，从而将该湿法剥离设备及其剥离方法应用于液晶面板制作过程中，能够避免影响产品的电性，也不会由此形成mura的不良现象，将大幅提高产品良率。

附图说明

通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：

图1是根据本发明的实施例的湿法剥离设备的工艺流程示意图。

具体实施方式