[发明专利]一种红外敏感组合物及其由该组合物制得的印版前体在审

专利信息
申请号: 201711023755.3 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN108181786A 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 徐能平;马显瑶;高邈;翁银巧;胡玲玲;应作挺;诸海梦;俞正发;周辉;刘崇双;焦乐泽;陶烃 申请(专利权)人: 浙江康尔达新材料股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;B41C1/10
代理公司: 温州瓯越专利代理有限公司 33211 代理人: 王庭辉
地址: 325000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 印版前体 红外敏感组合物 组合物制 平版印刷印版前体 红外吸收剂 侵蚀 醇类溶剂 辐射敏感 使用寿命 最大波长 羟基嘧啶 聚合物 化学品 耐抗性 成像 溶解 印刷
【说明书】:

发明提供了一种红外敏感组合物及利用该组合物制得的印版前体,所述组合物包含一种红外吸收剂和一种含羟基嘧啶基团的聚合物。如此使得该组合物不仅可对最大波长为700~1300nm的辐射敏感,而且由该组合物制成的可成像印版前体还对酮、醇类溶剂的侵蚀具有良好的耐抗性,在使用过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象,从而有利于延长平版印刷印版前体的使用寿命。

技术领域

本发明属于平版胶印用印刷版材领域,具体涉及一种红外敏感组合物及利用该组合物制得的平版印刷印版前体。

背景技术

用于制备平版印刷板材的可成像元件通常包含施加在载体亲水表面(或中间层)上的一个或多个可成像层,该可成像层包含一种或多种分散在粘结剂中的辐射敏感成分。在辐射成像后,通过合适的显影剂将可成像层的曝光区域或非曝光区域除去,露出下方的载体亲水表面。如果除去的是曝光区域,该可成像元件则被认为是阳图制版,相反地,如果除去的是非曝光的区域,该可成像元件被认为是阴图制版。无论哪种情况,可成像层中未被除去的区域是油墨接受性的,而通过显影过程露出的亲水表面则是接受水或水性溶液(通常是润版液)而排斥油墨的。

现有技术中用于阳图制版的可成像元件的辐射敏感成分通常是含有酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘结剂和重氮醌成像组分的可成像组合物。除此之外,还有基于各种酚醛树脂和红外辐射吸收化合物的可成像组合物。在实际的平版印刷中,常用的印刷室化学品对可成像组合物具有侵蚀作用,例如印版清洗剂、转印布洗涤剂和润版液中的醇替代物,尤其是在使用可紫外线固化的油墨的印刷方法中所用到的具有高的酯类、醚类或酮类含量的漂洗剂。因此,为了保证可紫外线固化油墨的正常印刷,可成像组合物中使用的辐射敏感性组合物必须要有良好的耐侵蚀性。

然而,现有技术中常用的醌二叠氮化合物和酚醛树脂辐射敏感性组合物均可溶于清洁印刷版用的二醇醚溶剂,并不利于可紫外线固化油墨的印刷。因此,如何提高可成像组合物对溶剂和印刷室化学品的耐受性已成为本领域亟待解决的一个技术问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于克服现有的用于平版制版的可成像组合物易受印刷室化学品侵蚀的缺陷,进而提供一种对印刷室化学品具有良好耐抗性的红外敏感组合物及利用该组合物制得的平版印刷印版前体。

本发明解决上述技术问题的技术方案为:

一种红外敏感组合物,包含:

(a)至少一种红外吸收剂;和

(b)一种含羟基嘧啶基团(I)的聚合物。

(I)

所述聚合物由下面构造式(II)表示:

— (A) m—(B)n— (II)

其中A表示包含所述羟基嘧啶基团的重复单元,B表示不包含羟基嘧啶基团的重复单元,m为 10〜70 mol %,且 n为 30〜90 mol %。

所述的A重复单元表示包含衍生自一种或多种烯键式不饱和可聚合单体的碳-碳主链的重复单元,并且所述羟基嘧啶基团通过一个二价有机基团 -L- 连接至所述主链,优选的二价有机基团 -L- 为 -(C=O)-O-CH2CH2-NR1-(C=O)-NR2- ,且R1和R2可独立地表示为氢或烷基、芳基、或环烷基,即不需要同时相同出现,可以交替出现,比如R1=氢, R2=芳基,优选地R1=R2=氢。

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