[发明专利]基于多孔介质三维微观结构模型的DNAPL迁移数值模拟方法有效

专利信息
申请号: 201711018115.3 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN107808049B 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 吴剑锋;吴鸣;吴吉春 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23;G06F111/10
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 徐莹
地址: 210008 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 多孔 介质 三维 微观 结构 模型 dnapl 迁移 数值 模拟 方法
【权利要求书】:

1.一种基于多孔介质三维微观结构模型的DNAPL迁移数值模拟方法,其特征在于:包括以下步骤:

(1)用可见光微观成像技术扫描半透明多孔介质,精确测量出多孔介质的孔隙度;

(2)对多孔介质微观结构建立三维正四棱锥的微观分形模型,通过微观分形模型计算出渗透率;

(3)用多孔介质的微观分形模型定量确定平均孔隙直径,从而根据杨-拉普拉斯方程计算出多孔介质的毛管进入压力;

步骤(3)从多孔介质微观结构中选择一个正四棱锥的研究单元,其孔隙度n和单元体积Vr分别为:

其中,Vr是正四棱锥研究单元的单元体积,Rv是多孔介质固相颗粒的半径,Lr是正四棱锥研究单元的边长;

由于正四棱锥的体积和边长存在以下关系:

因此,正四棱锥研究单元的边长和其中的孔隙体积为:

其中,Vrp是正四棱锥研究单元中的孔隙体积;

把正四棱锥研究单元里的孔隙近似为一个球体,从而计算出球体的直径λr1

正四棱锥研究单元底部为正方形,其对应的总面积及孔隙面积分别为:

其中,Arb为底面正方形的总体积,Arbs为固相所占的面积,Arbp为孔隙所占的面积;

将底面正方形中孔隙所占面积近似为一个圆,并计算圆的直径λr2,由于圆的面积和直径存在以下关系:

因此,

同理,正四棱锥研究单元的侧面为三角形,把孔隙所占面积也近似为一个圆,圆的直径λr3为:

其中,Arsp是正四棱锥研究单元侧面的正三角形中孔隙面积,

正四棱锥研究单元中,固相颗粒间的空隙的距离ΔLr为:

当流体在多孔介质中流动时,不仅会通过单元内的中间孔隙、底面和侧面的孔隙,也会流过颗粒之间的空隙,因此,孔隙直径do是λr1、λr2、λr3和颗粒间空隙距离ΔLr的平均值:

将正四棱锥研究单元中的孔隙直径do作为其中毛细管的直径λ,就可以根据杨-拉普拉斯方程计算出毛管进入压力Pb

其中,ω=Fσcosθ,θ是流体和固体颗粒之间界面上的接触角,σ是界面上的表面张力,F是与多孔介质中毛细管形状和流体流动方向有关的参数;

(4)对多孔介质的渗透率和毛管进入压力的REV尺度进行定量评估;

(5)DNAPL注入半透明多孔介质进行迁移,用光透法监测DNAPL饱和度的分布;

(6)用多组分、多相流模拟程序UTCHEM建立数值模型模拟DNAPL的迁移,以REV的尺度为网格的尺度对二维半透明多孔介质进行剖分,把基于多孔介质三维微观结构模型定量确定的孔隙度、渗透率和毛管进入压力的数据转化成REV尺度的数据输入到UTCHEM中,对DNAPL在多孔介质中的迁移进行模拟。

2.根据权利要求1所述的多孔介质三维微观结构模型的DNAPL迁移数值模拟方法,其特征在于:步骤(1)将半透明多孔介质填入二维砂箱中饱水,可见光源从一侧照射砂箱,CCD相机在另一侧接收穿透二维半透明多孔介质的透射光信号,用可见光微观成像技术测量每个像素上半透明多孔介质的孔隙度:

其中,n是半透明多孔介质的孔隙度,Is是穿透饱水的半透明多孔介质的可见光的透射光强,Io是可见光源的原始光强,C是校正可见光透射误差的参数,αs是固相的光吸收系数,ds是饱水的半透明石英砂材料中固相颗粒的平均直径,LT是半透明颗粒材料的厚度,e是欧拉常数,τs,w是固相-液相水界面的光透射率,do是孔隙的平均直径。

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