[发明专利]一种镁合金微弧氧化工艺

权利要求书

1.一种镁合金微弧氧化工艺，包括：

(1)对镁合金表面进行预处理，除去表面污垢；

(2)对镁合金进行微弧氧化处理，所述镁合金为正极，不锈钢为阴极，微弧氧化选择恒压模式，正电压为410-450V，负电压为0，频率为600-900Hz，占空比为15-30％，氧化时间为20-50min，电解液为碱性硅酸盐，电解液温度控制在20-40℃；

(3)微弧氧化结束，打磨抛光；

(4)清洗镁合金并干燥。

2.如权利要求1所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，所述镁合金为铝镁合金。

3.如权利要求2所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，所述铝镁合金组成按重量百分比包括：Al 6.75-10.0％，Zn 0.35-1.0％，Mn 0.15-0.5％，Si 0.05-0.5％，Cu 0.01-0.1％，Ni 0.0001-0.0005％，Fe 0.001-0.01％，S 0.005-0.015％，Zr 0.005-0.015％，余量的Mg。

4.如权利要求1-3任一项所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，所述预处理为：将镁合金表面打磨，经去离子水清洗，再经丙酮清洗，干燥。

5.如权利要求1-4任一项所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，步骤(2)中微弧氧化正电压为420-440V，优选430V。

6.如权利要求1-5任一项所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，步骤(2)中微弧氧化频率为650-750Hz，优选700Hz。

7.如权利要求1-6任一项所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，步骤(2)中微弧氧化占空比为15-25％，优选20％。

8.如权利要求1-7任一项所述的镁合金微弧氧化工艺，其特征在于，所述电解液包括：硅酸钠10-20g/L，氟化钾10-15g/L，氢氧化钠1-5g/L。