[发明专利]一种柔性显示基板、显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种柔性显示基板，包括：背膜、设置在所述背膜之上的第一柔性衬底基板、以及设置在所述第一柔性衬底基板背离所述背膜一面的第二柔性衬底基板，所述柔性显示基板具有弯曲区，其特征在于，

所述第一柔性衬底基板和所述第二柔性衬底基板之间还设置有辅助层，所述弯曲区的至少部分所述辅助层能够在满足预设条件时发生分解，其中，所述辅助层以外的其它膜层在所述预设条件下维持原状；

所述显示基板在所述弯曲区具有凹槽结构，所述凹槽结构由所述背膜延伸至所述辅助层，所述凹槽结构对应位置处的所述辅助层的厚度大于零；

所述满足预设条件包括受到预设波长的光照射，所述辅助层为非晶硅层，所述预设波长的光为500～560纳米的激光。

2.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述弯曲区的所述第一柔性衬底基板和所述第二柔性衬底基板之间具有空隙，所述空隙为所述弯曲区的至少部分所述辅助层在满足所述预设条件时发生分解形成。

3.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，在所述辅助层与所述第二柔性衬底基板之间还设置有应力平衡层。

4.如权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，所述应力平衡层为氧化硅膜层或氮化硅膜层。

5.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板在所述弯曲区具有凹槽结构，所述凹槽结构由所述背膜延伸至所述辅助层。

6.一种柔性显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的柔性显示基板。

7.一种柔性显示基板的制作方法，所述柔性显示基板具有弯曲区，其特征在于，所述制作方法包括：

在第一柔性衬底基板之上形成非晶硅层；

在辅助层背离所述第一柔性衬底基板的一面形成第二柔性衬底基板；

在所述第一柔性衬底基板的背离所述辅助层的一面形成背膜；

以波长500～560纳米的激光照射所述弯曲区的所述非晶硅层；

去除所述弯曲区的所述背膜和所述第一柔性衬底基板，以使所述显示基板在所述弯曲区具有凹槽结构，所述凹槽结构由所述背膜延伸至所述辅助层，所述凹槽结构对应位置处的所述辅助层的厚度大于零。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述去除所述弯曲区的所述背膜和所述第一柔性衬底基板，具体包括：沿所述辅助层的分解所成空隙的边缘进行激光切割，以切除所述弯曲区的所述背膜和所述第一柔性衬底基板。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述形成第二柔性衬底基板之前，所述制作方法还包括：在所述辅助层背离所述第一柔性衬底基板的一面形成应力平衡层。