[发明专利]一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置

说明书

本发明实施例公开了一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法，包括步骤：将经过清洗装置清洗后的玻璃基板，通过第一滚轮装置移入一烘干室；通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理；将所述烘干后的玻璃基板，通过第二滚轮装置移入一冷却室；通过所述冷却室中设置的冷却板，对所述烘干后的玻璃基板进行冷却处理；将冷却后的玻璃基板传送至气浮式涂布机的涂布前平台上，以对所述玻璃基板进行涂布处理。本发明还提供了相应的装置。实施本发明实施例，可以减少玻璃基板进行涂布前的异物微粒物的数量，且烘干效果好。

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置。

背景技术

在液晶显示面板的制作过程中，在阵列基板（TFT侧）的曝光部的生产工艺中，玻璃基板在涂布前需要完成通过清洗装置的清洗（Cleaner）工作，然后进行涂布前烘烤（Dehydration Bake，DB）以及冷却后进入涂布单元，在涂布单元上涂布相应光阻（Coater）后，再次经过烘烤（Pre-bake）过程，然后进入曝光机（Exposure），利用光罩（MASK）在玻璃基板上对光阻定义图形，再经过显影制程（Developer）显示出被定义的图形，才能完成TFT曝光工艺。

为了减少涂布过程中的涂布缺陷（coating defect），在现有技术中需要利用清洗装置（cleaner）完成涂布前清洗，主要分为以下几个步骤：

通过超紫外线（Extreme Ultra-Violet, EUV）来分解基板表面有机物，同时产生臭氧加快有机物分解，以及通过四甲基氢氧化铵（TMAH）来中和基板表面酸性物质；然后通过毛刷（RB）以及AAJEDT等装置来清洁玻璃基板上下两面的异物微粒（Particle）；在基板清洁干净后，再利用风刀（A/K）向基板上下表面吹气，以清除基板上残留的水分；当玻璃基板清洁完成后，会通过机械手臂（Robot）传送至涂布前烘烤设备（DB）中，以将玻璃基板烘干并冷却；冷却后的玻璃基板还需要通过机械手臂移动到涂布机中。

但现有的这种技术存在如下缺陷：首先，机械手臂的单元空间相对清洁段会更大，存在的异物微粒较多；另外，机械手臂的地板为高架地板，在机械手臂操作过程中所产生的气流会将楼下异物带到机械手臂单元空间内；而且，烧烤冷却设备中采用热盘（Hot plate，HP）和冷盘（Cool plate，CP）设置，当玻璃基板进片或出片时，机械手臂单元中的异物微粒会进入热盘和冷盘中，当玻璃基板进行静置加热和冷却时，这些异物微粒也会附着在玻璃表面；在已知技术中，采用气浮式涂布机（Levi coater）代替线性涂布机（Linear Coater）可以减少在涂布前的一次机械手臂传送（将冷却后的玻璃基板移动到涂布机中无需机械手臂），但在现有的这种方案中，在涂布前依能存在一次机械手臂传送过程（将玻璃基板移动到烘烤设备中），以及在烘烤时需要静置玻璃基板，从而仍存在玻璃基板表面吸附异物微粒的问题。

另外，在现有技术中，还存在在涂布前通过不启用DB方式（不对玻璃基板进行烧烤）来减少涂布的影响，此方法需要基于清洁段风刀（A/K）可以将基板上下表面残留的水分完全吹干才能实现，但实际A/K清洁过程中并无法将基板上水汽完全清除干净。若基板表面还存在水分，在涂布光阻的过程中，造成光阻剥落（peeling）风险非常高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法及装置，可以减少玻璃基板进行涂布前的异物微粒物的数量，且烘干效果好。

为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供一种对玻璃基板进行烘干和冷却的方法，所述方法包括步骤：

将经过清洗装置清洗后的玻璃基板，通过第一滚轮装置移入一烘干室；

通过所述烘干室中设置的红外加热板，对所述玻璃基板进行烘干处理；

将所述烘干后的玻璃基板，通过第二滚轮装置移入一冷却室；