[发明专利]基板结构及基板结构的制作方法

权利要求书

1.一种基板结构，包括基板与设置在所述基板上的图案化平坦化层，其特征在于，所述图案化平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧，所述图案化平坦化层包括位于图案有效区内的图案部分与位于图案有效区外的条状部分，所述图案部分与所述条状部分之间具有连续的断孔，所述图案有效区包括显示区与位于所述显示区外围的走线区。

2.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述基板与所述图案化平坦化层之间设有第一图案化金属层，所述第一图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第一图案部分，所述图案化平坦化层上设有第二图案化金属层，所述第二图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第二图案部分。

3.如权利要求2所述的基板结构，其特征在于，所述图案有效区的至少两个相对侧的其中之一为制作所述第二图案化金属层时涂布光阻的起刀侧。

4.一种基板结构的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板上形成平坦化层，所述平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧，所述图案有效区包括显示区与位于所述显示区外围的走线区；

利用光罩曝光所述平坦化层以形成图案化平坦化层，所述光罩具有与所述图案有效区对应的图案开口以及与所述图案有效区的至少两个相对侧的边缘对应的条形开口。

5.如权利要求4所述的基板结构的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成图案化平坦化层之前，还包括：

在所述基板上形成第一图案化金属层，所述第一图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第一图案部分；

在所述基板上形成图案化平坦化层之后，还包括：

在所述图案化平坦化层上形成第二图案化金属层，所述第二图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第二图案部分。

6.如权利要求5所述的基板结构的制作方法，其特征在于，所述图案有效区的至少两个相对侧的其中之一为制作所述第二图案化金属层时涂布光阻的起刀侧。