[发明专利]一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置

权利要求书

1.一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置，其特征在于，包括：

供气装置、气流管道和装置本体；

所述气流管道将所述供气装置和所述装置本体连通；

所述装置本体包括气体入口、气体通道和气体出口，所述气流管道在所述气体入口将气流导入所述气体通道，气流经气体通道传输后由气体出口排出；

从所述气体出口排出的压力气流形成气流平面，喷射在光学元件的周围起到保护作用。

2.根据权利要求1所述保护装置，其特征在于，气体通道是一个扁平的漏斗形状的腔体，气体出口为长条状的直缝隙。

3.根据权利要求1所述保护装置，其特征在于，所述装置本体为圆心向下的弧体，所述气体入口位于弧体的侧面中心处，所述气体出口位于弧体底部，所述气体出口为曲面扁平狭缝。

4.根据权利要求1所述保护装置，其特征在于，所述装置本体为圆心向下的弧体，所述气体入口位于弧体的侧面中心处，所述气体出口位于弧体底部，所述气体出口为均匀排布的多个出气孔。

5.根据权利要求1-4之一所述保护装置，其特征在于，所述供气装置为气泵，气泵流速为500ml/min。

6.根据权利要求1-4之一所述保护装置，其特征在于，所述装置本体位于光学元件斜上方，距光学元件平行距离1cm，垂直距离1.5cm。

7.根据权利要求3或4所述保护装置，其特征在于，所述装置本体的弧体半径为10cm，角度为90°，厚度0.5cm。

8.根据权利要求1-7之一所述保护装置，其特征在于，所述气流管道为橡胶管，所述气体入口的直径为2cm；所述橡胶管外径为2cm；内径为1.5cm。

9.根据权利要求4所述保护装置，其特征在于，所述出气孔数量为100个，孔径200μm。

10.根据权利要求1-4之一述保护装置，其特征在于，气体通过所述装置本体后形成平面或者曲面的致密气流层；或者，所述装置本体材质可选用PEEK或不锈钢。