[发明专利]一种陶瓷清洗剂及其制备方法

说明书

本发明提供一种陶瓷清洗剂，包括无机碱3‑10份、鳌合剂3‑14份、增溶剂5‑18份、表面活性剂3.5‑17份以及余量去离子水。应用本发明的陶瓷清洗剂，效果是：(1)配方精简，原料容易获得，成本适中；(2)各原料采用合理的配比，具有碱性弱、湿润性强、不腐蚀陶瓷基材以及具有独特的渗透力等特点，能高效去除粗抛工序、精抛工序中使用的二氧化铈、二氧化硅、三氧化二铝辅料颗粒残留，产品合格率高达96％。本发明还提供一种陶瓷清洗剂的制备方法，制备工艺精简，便于工业化生产。

技术领域

本发明涉及清洗技术领域，具体涉及一种陶瓷清洗剂及其制备方法。

背景技术

近几年来，随着5G通信将采用3Ghz以上的频谱技术，因氧化锆陶瓷手机后盖具有无信号屏弊、硬度高、观感强及接近金属材料优异散热性等特点，其成为手机企业进军5G时代的重要选择。

氧化锆陶瓷是一种集金属材料、非金属材料之后手机后盖无机非金属材料和高分子材料的共同优点，崛起的氧化锆陶瓷以抗高温超强度、常温下为绝缘体、高温下则有导电优良性、多功能等优良性能在新的材料世界独领风骚，给高档手表业与触摸屏制造企业(尤其是触摸屏手机制造企业)带来了无限的发展空间，触摸屏后盖板加工企业也随着迅速发展壮大。

氧化锆陶瓷的应用离不开粗抛、精抛等加工工艺，加工后其表面常常留有二氧化铈、二氧化硅、三氧化二铝等液粒，若清洗不良，则会导致产品存在表面易被腐蚀、产生异色等不良。

现有的清洗剂种类繁多，大多适用于玻璃，针对于陶瓷的清洗剂种类也繁多，如下：

申请号为201510842551.7的发明申请公开了一种陶瓷膜清洗剂，其包括以下质量份的原料：乙醇酸50-60份、四硼酸钠1-6份、十二烷基苯磺酸钠5-10份、柠檬酸钠10-20份、硅酸钾1-10份和甲基纤维素1-4份。上述陶瓷膜清洗剂用来清洗微滤以植物药为主的中药液体制剂的陶瓷膜，具有清洗和杀菌双层功效。

申请号为201510381577.6的发明申请公开了一种陶瓷清洗剂，所述陶瓷清洗剂包括如下重量份的原料：丙烯酸8-12份、烷基磷酸酯6-10份、烷基芳基磺酸钠6-10份、椰油脂肪酸二乙醇酰胺1-5份、三羟乙基甲基季胺甲基硫酸盐4-8份、十二烷基硫酸钠4-8份、芝麻油2-6份、茶树油1-5份和去离子水80-120份。此陶瓷清洗剂能迅速彻底清除各类瓷砖表面、缝隙里的顽固污垢。

申请号为201310036507.8的发明申请公开了一种陶瓷手模碱性清洗剂，所需原料及重量配比如下：氢氧化钾或氢氧化钠0.5-30％；羟基有机羧酸盐类离子螯合剂0.1-20％；缓蚀剂0.1-10％；次氯酸钠稳定剂0.1-10％；水余量。此清洗剂用于除去手模上残留的脂肪酸附着物及黄色污染物等。

除此之外，还有其他陶瓷清洗剂，其目的都是清除附着在陶瓷表面的污染物等，确保陶瓷产品的清洁。现有的陶瓷清洗剂均不能用于去除陶瓷粗、精抛工序氧化锆陶瓷抛光后表面二氧化铈、二氧化硅、三氧化二铝等颗粒或液粒。

因此，研发一种适合去除陶瓷加工过程中残留的颗粒或液粒且去除率高的清洗剂具有重要意义。

发明内容

本发明目的在于提供一种配方精简且能高效去除陶瓷粗、精抛工序氧化锆陶瓷抛光后表面二氧化铈、二氧化硅、三氧化二铝等颗粒或液粒的陶瓷清洗剂，具体技术方案如下：

一种陶瓷清洗剂，以重量份数计包括以下原料：无机碱3-10份、鳌合剂3-14份、增溶剂5-18份、表面活性剂3.5-17份以及去离子水60-82份。

以上技术方案中优选的，所述表面活性剂由阴离子表面活性剂0.5-1份和非离子表面活性剂3-16份组成。

以上技术方案中优选的，所述鳌合剂为乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四乙酸二钠以及羟基乙叉二膦酸中的至少一种；