[发明专利]气体传感器及其制备工艺和空气处理设备

权利要求书

1.一种气体传感器，包括壳体和敏感膜组件，其特征在于，所述壳体包括：

本体，所述本体内部中空形成反应腔，所述反应腔的底部设有容置槽，所述容置槽的底面开设有进气孔；

支撑筋，所述支撑筋凸设于所述容置槽的底面上；

所述敏感膜组件设于所述容置槽中，所述支撑筋支撑于所述敏感膜组件的下方。

2.如权利要求1所述的气体传感器，其特征在于，所述气体传感器还包括：

透气膜，所述透气膜覆设于所述进气孔的外侧；

中转片，所述中转片设于所述容置槽内，且所述中转片位于所述敏感膜组件远离所述进气孔的一侧；

密封盖，所述本体还开设有组装孔，所述组装孔与所述反应腔连通，所述密封盖与所述本体密封相连，以封闭所述组装孔。

3.如权利要求1所述的气体传感器，其特征在于，所述气体传感器还包括：

引线板，所述引线板与所述本体相连，且所述引线板设于所述反应腔外部；

第一引线，所述第一引线连接于所述敏感膜组件的上表面和所述引线板的第一接线端之间；

第二引线，所述第二引线连接于所述敏感膜组件的下表面和所述引线板的第二接线端之间；

所述本体表面开设有第一线孔和第二线孔，所述第一引线穿设于所述第一线孔中，所述第二引线穿设于所述第二线孔中，且所述第一线孔和所述第二线孔在所述敏感膜组件厚度方向上的距离小于或等于所述敏感膜组件的厚度。

4.如权利要求3所述的气体传感器，其特征在于，至少一所述支撑筋支撑于所述第一引线的下方；和/或，

至少一所述支撑筋支撑于所述第二引线的下方。

5.如权利要求3所述的气体传感器，其特征在于，至少一所述支撑筋的表面开设有线槽，所述第二引线容置于所述线槽中。

6.如权利要求5所述的气体传感器，其特征在于，所述线槽的延伸方向与所述第二线孔的延伸方向相一致。

7.如权利要求1至6中任一项所述的气体传感器，其特征在于，所述壳体还包括：

台阶部，所述台阶部沿所述容置槽底面的周向边缘设置，所述台阶部的高度与所述支撑筋的高度一致，且所述台阶部的高度和所述支撑筋的高度均小于所述容置槽的深度。

8.如权利要求1至6中任一项所述的气体传感器，其特征在于，所述本体表面开设有至少两个安装孔，所述安装孔与所述反应腔相隔离；和/或，

所述本体表面开设有至少两个安装槽，所述安装槽与所述反应腔相隔离。

9.如权利要求1至6中任一项所述的气体传感器，其特征在于，所述支撑筋的数量至少为两条，且所述支撑筋沿所述进气孔的周向排列。

10.一种空气处理设备，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的气体传感器。

11.一种气体传感器的制备工艺，其特征在于，所述气体传感器包括壳体和敏感膜组件，所述壳体包括本体和支撑筋，所述本体内部中空形成反应腔，所述反应腔的底部设有容置槽，所述容置槽的底面开设有进气孔；所述支撑筋凸设于所述容置槽的底面上；所述敏感膜组件设于所述容置槽中，所述支撑筋支撑于所述敏感膜组件的下方；

所述气体传感器的制备工艺包括以下步骤：

制备第一联结阵列，所述第一联结阵列包括外框、多个搭片和多个沿阵列排列的所述壳体，所述搭片连接在相邻的两所述壳体之间。

12.如权利要求11所述的气体传感器的制备工艺，其特征在于，在所述制备第一联结阵列的步骤之后，所述气体传感器的制备工艺还包括以下步骤：

分别在所述第一联结阵列中的各所述壳体的进气孔外侧覆设透气膜；

切割所述第一联结阵列；

安装引线板于各分立的所述壳体上；

穿设第一引线于所述壳体的第一线孔中，连接所述第一引线于所述敏感膜组件和所述引线板之间，穿设第二引线于所述壳体的第二线孔中，连接所述第二引线于所述敏感膜组件和所述引线板之间；

按预设位置排布多个所述壳体，制备第二联结阵列；

分别在所述第二联结阵列中的各所述壳体的反应腔内安装所述敏感膜组件和中转片；

分别在所述第二联结阵列中的各所述壳体上安装密封盖，以封闭各所述壳体的组装孔；

分离所述第二联结阵列，形成多个气体传感器。