[发明专利]用于形成图像传感器的方法及图像传感器在审

专利信息
申请号: 201710980861.4 申请日: 2017-10-20
公开(公告)号: CN107749415A 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 吴明;吴孝哲;林宗贤;吴龙江;薛超;朱晓彤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/0236
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 田菁
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 形成 图像传感器 方法
【权利要求书】:

1.一种用于形成图像传感器的方法,其特征在于,包括:

提供具有光电二极管的半导体衬底;以及

在所述半导体衬底的形成有光电二极管的区域的上表面形成凹部和凸部,所述上表面为用于接收入射光的表面。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过刻蚀处理形成所述凹部和凸部。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述半导体衬底的形成有每个光电二极管的区域内形成有一个或更多个所述凹部或凸部。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述刻蚀处理形成的所述凹部或凸部的侧墙相对于垂直方向具有斜度。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述刻蚀处理形成的所述凹部或凸部的截面为矩形、锥形、倒锥形、V字形、双斜坡形、以及弧形中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

在形成了所述凹部和凸部的所述半导体衬底之上沉积材料,并对其上表面进行平坦化,以形成平坦化层。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述平坦化层能够透光和/或具有滤色功能。

8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述材料为电介质材料。

9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在所述平坦化层之上形成微透镜。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,还包括在所述平坦化层之上以及所述微透镜之下形成滤色器。

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