[发明专利]一种氧化物/金属核壳结构量子点及其制备方法、应用在审

专利信息
申请号: 201710970942.6 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN107722966A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 杨为家;赵志诚;陈岩;刘铭全;刘俊杰;刘均炎;何鑫;唐秀凤 申请(专利权)人: 五邑大学
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;H01L33/06;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 丁佳佳
地址: 529000*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化物 金属 结构 量子 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

发明属于半导体光电子器件技术领域,特别涉及一种氧化物/金属核壳结构量子点及其制备方法、应用。

背景技术

光二极管(LED)作为一种新型固体照明光源和绿色光源,具有体积小、耗电量低、环保、使用寿命长、高亮度、低热量以及多彩等突出特点,在室外照明、商业照明以及装饰工程等领域都具有广泛的应用。当前,在全球气候变暖问题日趋严峻的背景下,节约能源、减少温室气体排放成为全球共同面对的重要问题。以低能耗、低污染、低排放为基础的低碳经济,将成为经济发展的重要方向。在照明领域,LED发光产品的应用正吸引着世人的目光,LED作为一种新型的绿色光源产品,必然是未来发展的趋势,21世纪将是以LED为代表的新型照明光源的时代。但是现阶段LED的应用成本较高,发光效率较低,这些因素都会大大限制LED向高效节能环保的方向发展。

目前,LED大多是基于GaN半导体材料的。然而,GaN材料由于制造设备相对昂贵、资源有限、薄膜外延困难等问题限制其持续性发展。因此及时研发下一代LED半导体材料是十分必要和急迫的。ZnO半导体材料的激子束缚能高达60meV,远远大于GaN的(25meV),有利于实现室温下的激光发射,且具有外延生长温度低、成膜性能好、原材料丰富、无毒等优点,且ZnO的制备及其器件应用研究也成为近年来的热点,ZnO有望成为GaN的理想替代材料之一。然而,目前的ZnO基器件大都是基于纤锌矿结构c面ZnO。由于纤锌矿结构ZnO沿c轴方向缺乏对称反演中心,正负离子中心不重合而导致强的内建电场,进而产生量子限制斯塔克效应(QCSE),降低电子和空穴的复合效率,最终损害器件的性能。而有效解决这一问题的途径就是发展非极性ZnO,即a面ZnO(11-20)和m面ZnO(10-10)以及立方ZnO。由于ZnO材料高浓度p型掺杂困难,目前非极性ZnO基LED大多是基于异质结构。然而,非极性ZnO异质结LED的发光效率较低,极大地限制了它的发展。为了促进非极性ZnO的发展,采用一种简单而高效的方法提高非极性ZnO异质结LED的性能显得极为重要。而在ZnO基LED中引入金属量子点(ZnO量子点LED),是一种提高LED性能的较好的解决方案。金属量子点具有局域表面等离子体激元增强效应,可以有效提高载流子的复合效率,进而大幅提高器件的性能(~10%)。因此,研发非极性ZnO量子点LED具有重要的现实意义。

然而目前应用在LED的金属量子点大部分是提前制备好,之后采用旋转涂覆的方法进入LED结构或者是通过水热法制备在纳米柱上。这些方法工艺复杂,工序连续性差,且不利于工业化生产。由此看来,要实现量子点LED的产业化,通过外延的方法实现金属量子点的可控制备是十分必要的。此外,在外延中,金属量子点很有可能起到催化剂的作用,使外延的结果朝着纳米柱发展,而不是预期的薄膜,且金属量子点也会消失。这个问题在量子点LED外延生长也是应当避免的。

发明内容

针对现有技术存在的缺点与不足,本发明的目的之一在于提供一种可用于LED的氧化物/金属核壳结构量子点,具有尺寸可控、分布均匀性好的优点。

本发明的目的之二在于提供上述氧化物/金属核壳结构量子点的制备方法。

本发明的目的之三在于提供上述氧化物/金属核壳结构量子点的应用。

本发明的目的通过以下技术方案实现:

一种氧化物/金属核壳结构量子点,包括依次排列的金属量子点以及包覆金属量子点的金属氧化物壳层

优选地,所述氧化物/金属核壳结构量子点包括由下至上依次排列的衬底、金属量子点以及包覆金属量子点的金属氧化物壳层。

进一步优选地,所述衬底包括Si、蓝宝石或掺钇氧化锆。

优选地,所述金属量子点包括Ni、Ag、Fe、Mn、Ge、Pt和W量子点中的至少一种。

进一步优选地,所述金属量子点的直径为10-1000nm。

优选地,所述金属氧化物壳层的厚度为1-30nm。

进一步优选地,所述金属氧化物壳层是金属核心对应的氧化物,包括NiOx,AgO,MnOx,GeOx,PtOx和WOx中的至少一种。

上述氧化物/金属核壳结构量子点的制备方法,包括以下步骤:

(1)衬底的处理:将预处理后的衬底置于真空室中,真空度为5×10-8-9×10-8Pa,在温度为700-1200℃的条件下退火30-120min,除去衬底表面的残留碳化物,从而获得干净且平整的表面;

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