[发明专利]低剖面的空间滤波器

权利要求书

1.一种低剖面的空间滤波器，其特征在于，包括：

滤波组件，所述滤波组件包括相对设置的两个超构结构体；每一所述超构结构体均包括：

基板，具有相对的第一表面和第二表面，所述基板的厚度为0.2mm；多个第一谐振器，阵列排布于所述第一表面，且各所述第一谐振器包括一第一谐振体微结构；

多个第二谐振器，阵列排布于所述第二表面，且各所述第二谐振器包括一第二谐振体微结构；其中，每一所述第二谐振器与一所述第一谐振器相对且相互耦合；

所述第一谐振体微结构包括：

第一金属膜片，设置为由第一条形结构和第二条形结构形成的正交十字结构；

四个第二金属膜片，对称分布于所述正交十字结构形成的四个象限内；

所述第二金属膜片设置为直角弯折结构，且各所述第二金属膜片均在其所在的象限内与所述第一金属膜片之间形成直角弯折间隙；

所述第一谐振体微结构还包括：

四个第三金属膜片，设置为长方形，四个所述第三金属膜片旋转对称的分布于所述十字结构形成的四个象限内；每一所述第三金属膜片均位于一所述第二金属膜片的弯折角内且与一所述第二金属膜片的一直角边垂直连接。

2.根据权利要求1所述的低剖面的空间滤波器，其特征在于，所述第一条形结构以及第二条形结构的宽度与所述直角弯折间隙的宽度相同。

3.根据权利要求1所述的低剖面的空间滤波器，其特征在于，第一条形结构和第二条形结构的长度相同，所述第二金属膜片的两直角边长度相同。

4.根据权利要求1～3任一项所述的低剖面的空间滤波器，其特征在于，所述第二谐振体微结构包括：

第四金属膜片，设置为中心具有正交十字镂空结构的正方形，且正交十字镂空结构与所述正方形同中心轴。

5.根据权利要求4所述的低剖面的空间滤波器，其特征在于，所述第四金属膜片与所述第一金属膜片同中心轴，且所述第一条形结构及第二条形结构的长度大于所述正方形的边长。

6.根据权利要求4所述的低剖面的空间滤波器，其特征在于，相邻的两个所述第二金属膜片之间的距离等于所述正交十字镂空结构的宽度。

7.根据权利要求1～3或5～6任意一项所述的低剖面的空间滤波器，其特征在于，所述基板为聚四氟乙烯板。