[发明专利]液晶介质和包含其的高频组件在审
申请号: | 201710960801.6 | 申请日: | 2017-10-17 |
公开(公告)号: | CN107955630A | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | M·维特克;D·克拉斯 | 申请(专利权)人: | 默克专利股份有限公司 |
主分类号: | C09K19/44 | 分类号: | C09K19/44;C09K19/12;C09K19/30;H01Q21/00;G02F1/13 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 姜煌 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 介质 包含 高频 组件 | ||
1.液晶介质,特征在于其包含一种或多种式I的化合物
其中
R1表示H,具有1至17个C原子的未氟化烷基或未氟化烷氧基,或具有2至15个C原子的未氟化烯基,未氟化烯基氧基或未氟化烷氧基烷基,
n为0,1或2,和
至
彼此独立地表示
其中
替代性地表示
优选
和在n=2的情况下,中的一个优选
表示和另一个优选表示
和其中一种或多种式I的化合物在介质中的总浓度为73重量%或更高。
2.根据权利要求1的液晶介质,特征在于其包含一种或多种选自式I-1,I-2和I-3的化合物的化合物
其中A12和A13具有权利要求1中所指出的含义和
L1表示H或F,和
R1表示具有1至7个C原子的未氟化烷基或具有2至7个C原子的未氟化烯基。
3.根据权利要求1或2的介质,特征在于其包含一种或多种选自式I-3a至I-3d的化合物的化合物:
4.根据权利要求1至3中一项或多项的介质,特征在于其以30重量%至70重量%的总浓度包含一种或多种如权利要求3中所指出的式I-3c的化合物。
5.根据权利要求1至4中一项或多项的介质,特征在于其额外以29%或更低的总浓度包含一种或多种选自式II和III的化合物的化合物
其中
R2表示H,具有1至17个C原子的未氟化烷基或未氟化烷氧基或具有2至15个C原子的未氟化烯基,未氟化烯基氧基或未氟化烷氧基烷基,
Z21表示反式-CH=CH-,反式-CF=CF-或-C≡C-,
彼此独立地表示
R3具有以上针对R2给出的含义,
Z31和Z32中的一者表示反式-CH=CH-,反式-CF=CF-或-C≡C-,
和
Z31和Z32中的另一者表示反式-CH=CH-,反式-CF=CF-或单键,
至
彼此独立地表示
替代性地独立地表示
6.根据权利要求1至5中一项或多项的介质,特征在于其以20%或更高的总浓度包含如权利要求2中所指出的式I-1的化合物。
7.根据权利要求1至6中一项或多项的介质,特征在于一种或多种式I的化合物选自式I-1b的化合物
8.根据权利要求1至7中一项或多项的介质,特征在于其额外包含一种或多种手性化合物。
9.用于高频技术的组件,特征在于其包含根据权利要求1至8中一项或多项的液晶介质。
10.根据权利要求9的组件,其中该组件适于在微波范围中操作。
11.根据权利要求9或10的组件,其中该组件是在微波区域中可操作的移相器或基于LC的天线元件。
12.根据权利要求1至8中一项或多项的液晶介质在用于高频技术的组件中的用途。
13.制备液晶介质的方法,特征在于将两种或更多种式I的化合物彼此混合和任选地添加手性化合物。
14.微波天线阵列,特征在于其包含一种或多种根据权利要求9至11中一项或多项的组件。
15.如权利要求1中所指出的式I的化合物,其中n为2。
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