[发明专利]一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜，包括基膜(1)，其特征在于：所述基膜(1)的顶部复合有防爆层(2)，所述防爆层(2)的顶部通过金属溅射一层防紫外线层(3)，所述防紫外线层(3)的顶部设有疏水层(4)；

所述有机硅镀晶漆面镀膜的制备步骤为：

S1：氧化铝基板上沉积二氧化硅或二氧化钛蒸汽干燥后制得基膜(1)，放置备用；

S2：纳米氧化钛粒子10～20份、氧化银5～10份、氧化钴3～5份、氧化镍1～5份以及胶合剂0.5～1.5份与足量的去离子水混合均匀后进行羟基修饰，随后采用乳化剂对其进行乳化，使其溶于水，通过金属溅射的方法将混合料均匀喷在基膜(1)上，形成防爆层(2)；使用羟基硅酸镁作为表面修饰剂对其进行原位表面化学修饰，并在生成的纳米粉体表面引入有机短链；

S3：苯基水杨酸酯20～30份、对叔丁基水杨酸酯15～25份、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮10～15份以及纳米氧化锌紫外屏蔽剂3～8份与氢氧化钠溶液混合，并将混合溶液均匀摊涂在步骤S2中的防爆层(2)上，使之形成防紫外线层(3)；

S4：将纳米粒子以及二氧化硅添加剂均匀涂覆在PVDF基膜上并干燥，使之形成疏水层(4)，并将疏水层(4)通过溅射方法复合到防紫外线层(3)上。

2.根据权利要求1所述的一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜，其特征在于：所述纳米粒子为纳米氧化钛粒子、纳米氧化锌粒子、纳米氧化铝粒子以及纳米氧化硅粒子的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜，其特征在于：所述防爆层(2)中按重量份计：纳米氧化钛粒子12～18份、氧化银6～9份、氧化钴3～4份、氧化镍2～5份以及胶合剂0.5～1份。

4.根据权利要求1所述的一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜，其特征在于：所述防爆层(2)中按重量份计：纳米氧化钛粒子14～16份、氧化银7～8份、氧化钴3～4份、氧化镍3～4份以及胶合剂0.6～1.2份。

5.根据权利要求1所述的一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜，其特征在于：所述防紫外线层(3)中按重量份计：苯基水杨酸酯22～28份、对叔丁基水杨酸酯18～22份、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮12～14份以及纳米氧化锌紫外屏蔽剂4～7份。

6.根据权利要求1所述的一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜，其特征在于：所述防紫外线层(3)中按重量份计：苯基水杨酸酯24～26份、对叔丁基水杨酸酯19～21份、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮13～14份以及纳米氧化锌紫外屏蔽剂5～6份。

7.一种基于羟基修饰的有机硅镀晶漆面镀膜制备工艺，其特征在于：该制备工艺的具体步骤如下：

S1：氧化铝基板上沉积二氧化硅或二氧化钛蒸汽干燥后制得基膜(1)，放置备用；

S2：纳米氧化钛粒子10～20份、氧化银5～10份、氧化钴3～5份、氧化镍1～5份以及胶合剂0.5～1.5份与足量的去离子水混合均匀后进行羟基修饰，随后采用乳化剂对其进行乳化，使其溶于水，通过金属溅射的方法将混合料均匀喷在基膜(1)上，形成防爆层(2)；使用羟基硅酸镁作为表面修饰剂对其进行原位表面化学修饰，并在生成的纳米粉体表面引入有机短链；

S3：苯基水杨酸酯20～30份、对叔丁基水杨酸酯15～25份、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮10～15份以及纳米氧化锌紫外屏蔽剂3～8份与氢氧化钠溶液混合，并将混合溶液均匀摊涂在步骤S2中的防爆层(2)上，使之形成防紫外线层(3)；

S4：将纳米粒子以及二氧化硅添加剂均匀涂覆在PVDF基膜上并干燥，使之形成疏水层(4)，并将疏水层(4)通过溅射方法复合到防紫外线层(3)上。