[发明专利]掩模盒在审

专利信息
申请号: 201710946783.6 申请日: 2017-10-12
公开(公告)号: CN108149189A 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 梁落云 申请(专利权)人: 成进半导体技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 郭放;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 形成部 插槽 上部框架 下部框架 掩模盒 掩模 上下方向延伸 材料形成 侧面框架 装载 支撑
【说明书】:

根据一个实施方式的掩模盒包括:插槽形成部,用于装载掩模;上部框架,用于盖住上述插槽形成部的上部;下部框架,设置于上述插槽形成部的下部;侧面框架,沿着上下方向延伸并连接于上述上部框架与上述下部框架之间,用于支撑上述插槽形成部;以及衬垫,与上述插槽形成部的上部面相结合,并与上述掩模相接触,由强度高于上述插槽形成部的材料形成。

技术领域

本发明涉及掩模盒。

背景技术

作为平板显示元件中的一种的有机电致发光显示器(OLED,Organic LightEmitting Display)为通过有机物的自发光来实现彩色图像的超轻薄型显示设备,其结构简单且光效率高,因此,作为下一代有前途的显示设备备受关注。

为了实现全彩(full color),有机电致发光显示器需对发光层进行图案化,在此情况下,可采用诸如利用精细金属掩模(FMM,Fine Metal Mask,以下称为“掩模”)的直接图案化方式、采用激光感热成像(LITI,Laser Induced Thermal Imaging)工艺的方式、利用滤色器(color filter)的方式等。

当采用掩模方式来制造大型OLED时,可采用在腔室内水平配置基板和经图案化(patterning)的掩模后进行蒸镀的所谓水平式向上蒸镀工艺。根据水平式向上蒸镀工艺,在使相对于腔室等的底面水平配置的基板和掩模相互对准后接合,在水平状态下向大型基板蒸镀有机物。

为了在腔室内对基板和掩模进行蒸镀,需向腔室内部供给掩模,此时,掩模在装载于盒(cassette)内的状态下以盒状态供给。

在作为现有文献的韩国公开专利公报第10-2013-0078373号中公开了“盒操作装置及包括它的盒供给系统”。

在上述现有文献中所公开的盒为用于装载多个掩模的一种框架,在一个盒中配置多张掩模。此外,上述盒中设置有支撑每个掩模的多个插槽形成部。

另一方面,在以往的盒中,当将掩模装载于插槽形成部时,在插槽形成部中因与掩模的摩擦而产生的微粒(particle)会附着于掩模,这将导致在掩模图案化过程中出现次品。

此外,在将掩模装载于盒之前,需要进行利用水清洗盒的工序,在以往的盒中,清洗后残留在盒表面的水会与掩模相接触,这将导致在掩模图案化过程中出现次品。

发明内容

本发明的目的在于,提供如下的掩模盒:可通过在插槽形成部设置衬垫,来解决在将掩模装载于插槽形成部时在插槽形成部中产生微粒的问题。

此外,本发明的目的在于,提供如下的掩模盒:显著减少在图案化过程中所产生的次品率。

此外,本发明的目的在于,提供如下的掩模盒:通过在盒中形成有排水水路,使清洗盒后所残留的水分顺畅地排出,从而可防止在掩模图案化的过程中因水分而产生的次品。

根据一个实施方式的掩模盒包括:插槽形成部,掩模装载于上述插槽形成部;上部框架,用于盖住上述插槽形成部的上部;下部框架,设置于上述插槽形成部的下部;侧面框架,向上下方向延伸并连接于上述上部框架与上述下部框架之间,用于支撑上述插槽形成部;以及衬垫,与上述插槽形成部的上部面相结合,并与上述掩模相接触,由强度高于上述插槽形成部的材料形成,上述插槽形成部包括:本体部,配置于上述掩模的两侧下部;延伸部,从上述本体部的两侧端部朝向内侧向水平方向延伸;以及挡止部,在上述插槽形成部的两侧端部朝向上侧突出,用于防止上述掩模的移动,上述衬垫包括:前方衬垫及后方衬垫,分别设置于上述插槽形成部的前方和后方;以及中间衬垫,设置于上述插槽形成部的中间,在上述衬垫的底面部设置有用于与上述插槽形成部相结合的连接部件,上述连接部件压入于上述衬垫的底面部与上述衬垫相结合,上述衬垫的上部面维持平面状态。

附图说明

图1为根据本发明一个实施例的掩模盒的立体图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成进半导体技术有限公司,未经成进半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710946783.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top