[发明专利]具有至少一个操纵器的投射曝光设备及操作其的方法

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光的系统，包括：

微光刻投射曝光设备，包括：

投射镜，包括多个光学元件，配置为在曝光过程期间将掩模结构成像到基底上，所述多个光学元件包括第一光学元件；

操纵器，配置为沿着预定行程方向改变所述第一光学元件的状态变量；以及

第一计算装置，与所述操纵器通讯，所述第一计算装置编程为基于优化算法为所述操纵器建立行程；以及

第二计算装置，布置在所述微光刻投射曝光设备的外面，所述第二计算装置与第一计算装置通讯，所述第二计算装置编程为基于关于所述掩模结构信息给所述第一计算装置提供所述优化算法。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述关于所述掩模结构的信息包括选自由以下构成的组的至少一个参数：线宽、所述掩模结构的几何结构的特征以及掩模结构的取向。

3.如权利要求1或2所述的系统，其中状态变量的变化在所述曝光过程期间改进所述投射镜的图像质量。

4.如权利要求1或2所述的系统，其中所述第一光学元件的状态变量是所述第一光学元件的位置的自由度。

5.如权利要求1或2所述的系统，其中所述操纵器通过对所述第一光学元件施加热和/或冷来改变所述第一光学元件的状态变量。

6.如权利要求1或2所述的系统，其中所述第二计算装置编程为给所述第一计算装置提供所述优化算法，作为配置为基于表征投射镜的成像质量的至少一个像差参数为所述操纵器建立所述行程的算法。

7.如权利要求1或2所述的系统，其中所述第二计算装置编程为基于包括多个基函数的数学模型给所述第一计算装置提供所述优化算法。

8.如权利要求1或2所述的系统，其中所述第二计算装置编程为从包括多个存储算法的数据库中撷取所述优化算法提供给所述第一计算装置。

9.如权利要求1或2所述的系统，其中所述第二计算装置编程为考虑到在所述曝光过程期间所述投射镜的成像质量的变化而优化所述优化算法。

10.如权利要求9所述的系统，其中所述第二计算装置编程为考虑在所述曝光过程期间元件的加热而优化所述优化算法。

11.如权利要求9所述的系统，其中所述第二计算装置编程为考虑到所述曝光过程对至少一个光刻误差的影响而优化所述优化算法。

12.如权利要求11所述的系统，其中所述至少一个光刻误差包括重叠误差。

13.如权利要求9所述的系统，其中所述第二计算装置编程为基于优值函数来优化所述优化算法。

14.如权利要求1所述的系统，其中所述微光刻投射曝光设备包括测量外部物理变量的传感器和考虑到使用所述传感器进行的测量来建立所述行程。

15.如权利要求14所述的系统，其中所述外部物理变量是气压。

16.在微光刻投射曝光设备的投射镜中的光学元件的操纵方法，投射镜配置为在曝光过程期间将掩模结构成像至基底上，所述方法包括：

将优化算法传至与所述微光刻投射曝光设备相关的第一计算装置，所述第一计算装置与操纵器通讯，并且所述优化算法基于掩模结构的信息；

使用所述第一计算装置，基于所述优化算法为所述操纵器建立行程；以及

基于为所述操纵器建立的行程，使用所述操纵器沿着预定行程方向改变第一光学元件的状态变量。

17.如权利要求16所述的方法，其中关于所述掩模结构的信息包括选自以下构成的组的至少一个参数：线宽、所述掩模结构的几何结构的特征、和掩模结构的取向。