[发明专利]一种全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法

权利要求书

1.一种全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、计算衍射光学元件上所需要的条纹分布和相位分布；

S2、将所述条纹分布和所述相位分布转化为模板深度分布和曝光量分布；

S3、根据所述模板深度分布和所述曝光量分布，通过扫描曝光法在光致抗蚀剂基片制作浮雕三维机构，得到光刻胶掩膜；

S4、通过电铸成型法将所述光刻胶掩膜复制到金属铬上形成表面微结构，得到铬模板；

S5、将所述铬模板上的表面微结构复制到衍射光学基片上，制得全息瞄准镜衍射光学元件。

2.如权利要求1所述的全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，所述S1包括：确定衍射元件的工作参数，根据所述工作参数、光学干涉原理以及傅里叶光学变换原理，计算所述条纹分布和所述相位分布。

3.如权利要求2所述的全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，所述工作参数包括工作波长、参考入射光角度以及全息再现光的位置。

4.如权利要求1所述的全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，所述S2和S3包括：采用光致抗蚀剂基片，根据所述曝光量分布进行扫描曝光法，在所述光致抗蚀剂基片的表面形成浮雕三维微结构，得到所述光刻胶掩膜。

5.如权利要求1所述的全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，所述扫描曝光法为电子束扫描曝光或者紫外线扫描曝光。

6.如权利要求1所述的全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，所述S3包括：通过光刻胶涂布、扫描曝光、显影、烘干，得到所述光刻胶掩膜。

7.如权利要求1所述的全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，所述衍射光学基片包括玻璃基片和涂覆于所述玻璃基片上的聚脂薄膜层，所述表面微结构位于所述聚脂薄膜层上。