[发明专利]具有收集器装置的热处理系统

权利要求书

1.一种热处理系统(100)，所述热处理系统(100)包括：能够接收多个基板(10)的腔室(2)；进气路径(5)，该进气路径在所述腔室(2)的与基板(10)进入所述腔室的区域对置的远侧部分中；以及用于气体和/或在热处理期间产生的挥发性物质的出口路径(6)，所述出口路径在所述腔室(2)的位于所述基板(10)进入所述腔室的所述区域附近的近侧部分中；所述热处理系统(100)的特征在于，所述热处理系统在所述腔室(2)的所述近侧部分中包括收集器装置(200)，所述收集器装置(200)：

·具有朝向所述腔室(2)的所述远侧部分取向的限制开口(202)；

·限定与所述出口路径(6)连通的隔室(201)，所述隔室被构造成使得所述气体和所述挥发性物质经由所述限制开口(202)进入所述隔室(201)并且穿过所述隔室而到达所述出口路径(6)，

其中，所述隔室(201)包括第一柱形壁和与所述第一柱形壁相对的第二柱形壁，所述第一柱形壁抵靠所述腔室(2)的内壁布置，并且

其中，所述限制开口(202)设置在所述第一柱形壁和所述第二柱形壁之间。

2.根据权利要求1所述的热处理系统(100)，其中，所述收集器装置(200)的总体形状为具有环形截面的中空柱体部分，所述环形截面形成所述隔室(201)的截面。

3.根据权利要求1所述的热处理系统(100)，其中，所述收集器装置(200)的总体形状为具有环形截面的中空柱体，所述环形截面形成所述隔室(201)的截面。

4.根据权利要求2或3所述的热处理系统(100)，其中，所述隔室(201)的所述环形截面的宽度为1到10mm。

5.根据权利要求1至3中的任一项所述的热处理系统(100)，其中，所述限制开口(202)在所述腔室(2)中位于温度高于所述挥发性物质的临界冷凝温度的位置。

6.根据权利要求1至3中的任一项所述的热处理系统(100)，其中，所述第二柱形壁具有至少一个吹扫孔(204)。

7.根据权利要求1至3中的任一项所述的热处理系统(100)，其中，所述收集器装置(200)包括能够插入到所述出口路径(6)中的端头(203)，所述端头(203)的一端与所述隔室(201)连通。

8.根据权利要求1至3中的任一项所述的热处理系统(100)，其中，所述收集器装置(200)是能移除的。

9.根据权利要求1至3中的任一项所述的热处理系统(100)，其中，所述收集器装置(200)由选自石英、碳化硅、硅、氮化铝和氧化铝之中的材料形成。