[发明专利]用于单面打磨的游星轮

说明书

技术领域

本发明涉及一种研磨装置，特别是一种可用于单面打磨的游星轮。

背景技术

现有的游星轮大部分被设计用于光学器件的双面抛光，即游星轮的厚度会小于光学器件的厚度，在某些情况下若仅需研磨一个面，使用者一般会选取厚度较厚的游星轮从而保证光学器件的另一个面不被研磨，但该种方式效率较低，抛光设备的两面研磨盘不能被有效利用。中国专利公告文本CN103158054B公开了两种在双面研抛机上实现的单面抛光方法，其采用粘合剂的方式将两片待研磨光学器件粘合，从而仅研磨两光学器件的各一个面，该种方法同样对于游星轮的厚度选取有一定要求，并且由于光学器件的另一个无需研磨的面仍需进行磨平等处理，通过该种研磨方式并不能一步完成。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种用于单面打磨的游星轮，通过该游星轮可以适合不同厚度的光学器件研磨工作，且在单面研磨同时另一面能完成磨平工作。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是

一种用于单面打磨的游星轮，其结构为：所述游星轮由至少一个单元轮组成，所述单元轮中开设有打磨孔，所述单元轮的上表面或下表面中至少一者设置有连续的凹凸部，所述凹凸部布满单元轮表面，所述凹部与凸部的形状相匹配；所述凹部与凸部间的高度差范围为0.2～0.5cm。

进一步地，所述游星轮至少由第一单元轮和第二单元轮组成，所述第一单元轮上表面的凹凸部和第二单元轮下表面的凹凸部相互贴合。

更进一步，所述凹凸部为平滑过渡，所述凹凸部的顶点呈圆弧形。

作为优选，所述游星轮包括横向凹凸部和纵向凹凸部。

进一步地，还包括打磨层，所述打磨层设置在第一单元轮和第二单元轮之间的打磨孔中。

作为优选，所述单元轮的上表面或下表面中至少一者设置有固定孔，所述固定孔内凹设置在打磨孔周围，所述打磨层面积较打磨孔大，其伸出打磨过部分被固定孔固定。

本发明同现有技术相比具有以下优点及效果：通过凹凸部结构的设置使游星轮的厚度可自由调整，凹凸部的高度差保证了在不影响游星轮加工的情况下可保证单元轮间的连接强度，凹凸部的平滑设置保证了转动过程中单元轮间的磨损较小而横向和纵向凹凸部的设置保证了单元轮间四个方向上的定位。并且当单元轮数量大于等于两个时，单元轮之间可形成用于存放打磨层的空间，用于非研磨面的磨平工作。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的结构示意图。

图2为本发明的剖视图。

标号说明：

游星轮1 打磨孔2固定孔3

横向凹凸部4 纵向凹凸部5光学器件6

打磨层7

具体实施方式

下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以下实施例是对本发明的解释而本发明并不局限于以下实施例。

实施例1：

如图1至2所示，本游星轮1由第一单元轮1A和第二单元轮1B组成，每个单元轮上均在相同位置开设有打磨孔2用以容纳光学器件6，并且在打磨孔2周围开设有内凹的固定孔3，每个单元轮上下表面设置有相配合横向凹凸部4和纵向凹凸部5，两组横向凹凸部4和纵向凹凸部5分别呈对角设置并布满单元轮的表面，其中凹部与凸部间的高度差可以设置为0.2～0.5cm中的任一值，并且凹凸部为平滑过渡，凹凸部的顶点呈圆弧形，第一单元轮1B上表面的凹凸部和第二单元轮1B下表面的凹凸部相互贴合，从而实现1A带动1B同时转动，并且1A和1B两者的打磨孔3A和3B对接，从而可以在其内容纳打磨层7并对其位置进行相对固定，使光学器件6无需研磨的面进行磨平。

此外，需要说明的是，本说明书中所描述的具体实施例，其零、部件的形状、所取名称等可以不同。凡依本发明专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效或简单变化，均包括于本发明专利的保护范围内。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离本发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本发明的保护范围。