[发明专利]一种化学反应釜内反应液注入喷头装置

说明书

本发明一种化学反应釜内反应液注入喷头装置公开了一种通过双通道注入，形成反向的螺旋射流，使得反应液可以平稳的注入反应釜的喷头装置。其特征在于限位环置于主体筒内壁，且位于主体筒一端，所述限位环上开有环形槽，密封环对应置于环形槽内，内套筒套置于主体筒内，且一端端面和密封环紧密贴合，固定套环螺接置于主体套一端，且将内套筒固定，固定套环内圈置有连接环，所述内套筒上开有多个进液槽，所述进液槽分为上下两层，两层进液槽数量相同，且相互交错排列，进液槽截面沿内套筒外壁向内壁逐渐减小，所述内套筒外壁上开有多个导向槽，且和进液槽一一对应，所述同一层的导向槽倾斜方向相同。

技术领域

本发明一种化学反应釜内反应液注入喷头装置，涉及一种在进行化工反应时，向反应釜内添加反应液的喷头装置，属于化工设备领域。特别涉及一种通过双通道注入，形成反向的螺旋射流，使得反应液可以平稳的注入反应釜的喷头装置。

背景技术

目前，在化工反应过程中，需要向反应釜内添加反应液，同时通过液位传感器进行液位的检测，由于反应液注入反应釜内，和反应釜内壁撞击形成冲击，使得反应液四处飞溅，当液位快接近传感器时，飞溅的反应液会使得传感器错误判断，从而停止注入反应液，然后在反应釜内反应时，会出现反应不充分的情况，现有的都是直流式的，将反应液通过注水管注入反应釜内，通过重力向下流动，很容易溅起液柱影响液位检测，传递错误信息，现有的会采用底部注入，该注入方法反应液送反应釜底部逐渐上升，但其注入的反应液较为集中，扩散慢，反应不充分，需要注入很多反应液才能进行充分反应，且成液柱直接注入反应釜内，然后从底部反涌至液位面，会导致液位面产生波动，不能平稳的注入反应液，使得传感器接收信息，而且直接注入需要很大的外部压力，增加成本。

发明内容

为了改善上述情况，本发明一种化学反应釜内反应液注入喷头装置提供了一种通过双通道注入，形成反向的螺旋射流，使得反应液可以平稳的注入反应釜的喷头装置。

本发明一种化学反应釜内反应液注入喷头装置是这样实现的：本发明一种化学反应釜内反应液注入喷头装置由主体装置和螺旋射流装置组成，主体装置由主体筒、密封环、连接环、固定套环、导向槽、进液槽、内套筒和限位环组成，限位环置于主体筒内壁，且位于主体筒一端，所述限位环上开有环形槽，密封环对应置于环形槽内，内套筒套置于主体筒内，且一端端面和密封环紧密贴合，固定套环螺接置于主体筒一端，且将内套筒固定，固定套环内圈置有连接环，所述内套筒上开有多个进液槽，所述进液槽分为上下两层，两层进液槽数量相同，且相互交错排列，进液槽截面沿内套筒外壁向内壁逐渐减小，所述内套筒外壁上开有多个导向槽，且和进液槽一一对应，同一层的导向槽倾斜方向相同，两层进液槽对应的导向槽倾斜方向相反，且相互之间不连通，所述导向槽对应的内套筒另一端端面略低，所述内套筒的另一端内边缘开始有倒角，所述内套筒内壁开有两层台阶，且分别对应置于两层进液槽的下边缘处，螺旋射流装置由通孔、第一旋转环、第一驱动环、贯穿孔、第二驱动轮、第二挡流板、第二旋转板、旋转叶片和第一导流环组成，第一旋转环可旋转的置于内套筒内，且置于内套筒内壁下一层台阶上，所述第一旋转环和内套筒上的下一层进液槽对应，多个通孔环形分布置于第一旋转盘上，，第一导流环置于第一旋转环上，所述第一导流环断面为波浪圆环，所述波浪波谷和通孔相内切，多个旋转叶片环形分布置于第一驱动环上，所述驱动环的内圈直径小于第一导流环的最小轮廓直径，第一驱动环扣置于第一导流环上，且旋转叶片置于第一导流环和内套筒之间，所述旋转叶片的长度介于内套筒内壁至第一导流环外壁上的波峰距离和内套筒内壁至第一导流环外壁上的波谷距离之间，旋转叶片高度小于第一导流环高度，第二旋转板可旋转的置于内套筒内，且置于内套筒内壁上一层台阶上，所述第二旋转板和内套筒上的上一层进液槽对应，多个贯穿孔环形分布置于第二旋转板上，所述贯穿孔内切于第一驱动环的内圈，多个第二挡流板对应置于贯穿孔内侧，所述第二挡流板主体为弧形结构，主体结构上置有多个斜向的翼板，相邻的两个第二挡流板之间置有一定间隙，第二驱动轮扣置于第二旋转板上，所述第二驱动轮上置有多个旋转叶片，所述旋转叶片对应置于相邻的两个第二挡流板之间，所述旋转叶片高度小于第二挡流板的高度。