[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法

权利要求书

1.一种化学增幅正型抗蚀剂组合物，其包含基体聚合物和具有式(A)的羧酸盐或具有式(B)的磺酰胺盐：

其中，R¹为C₁-C₃₀直链、支链或环状烷基，C₂-C₃₀直链、支链或环状烯基，C₂-C₃₀直链、支链或环状炔基，或C₆-C₂₀芳基，R¹可以含有酯基、醚基、硫醚基、亚砜基、碳酸酯基、氨基甲酸酯基、砜基、氨基、酰胺基、羟基、硫醇基、硝基或卤素部分，R¹不包括碘化芳香族基团，并且R¹含有至少一个氟、溴或碘原子；

R²是氟，C₁-C₁₀直链、支链或环状氟化烷基，或氟化苯基，R²可以含有羟基、醚基、酯基或烷氧基部分；

R³是氢，C₁-C₁₀直链、支链或环状烷基，C₂-C₁₀直链、支链或环状烯基，C₂-C₁₀直链或支链炔基，或C₆-C₁₀芳基，R³可以含有羟基、酯基、醚基或烷氧基部分；

Mⁿ⁺是选自Ca²⁺、Sr²⁺、Ba²⁺、Ce³⁺、Al³⁺、Ga³⁺、Tl³⁺、Sc³⁺和Y³⁺的金属离子，表示Mⁿ⁺价数的n为2或3的整数，

其中基体聚合物包含具有式(a1)的重复单元或具有式(a2)的重复单元：

其中，R^A各自独立地为氢或甲基，R¹¹和R¹²各自独立地为酸不稳定基团，X为单键、亚苯基、亚萘基或含有酯部分或内酯环的C₁-C₁₂连接基团，以及Y为单键或酯基。

2.权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其进一步包含能够产生磺酸、磺酰亚胺或磺酰甲基化物的产酸剂。

3.权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其进一步包含有机溶剂。

4.权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其进一步包含溶解抑制剂。