[发明专利]一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器

说明书

本发明公开了一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器。该适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器包括：至少两个干涉带通滤光片，所述干涉带通滤光片为窄条干涉带通滤光片，所述干涉带通滤光片相互结合在一起，且所述干涉带通滤光片的谱段不同。本发明提供的适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器具有良品率高且成本低的优点。

技术领域

本发明涉及机械领域，具体涉及一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器。

背景技术

多光谱信息获取技术已在航空、航天领域中得到广泛应用。分光技术是多光谱信息获取技术中的一个重要环节，传统的分光方法主要有旋转光栅、棱镜和滤光片转轮的时间分解方法，以及光栅棱镜和分束滤光片的空间分解方法。高分辨率多光谱成像仪能够采集到丰富的光谱信息，因此在军事侦查、气象研究、精准农业、森林防火以及海岸巡航等领域应用广泛，近年来对其光谱分辨率提出了更高的要求。多光谱窄带通集成式适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器具有单一谱段滤光片所不具备的优点，如多通道分光、宽谱段、光谱探测信息集成化等，可以应用在高分辨率多光谱成像仪中实现光学系统的多光谱成像，因而引起了人们广泛的兴趣。

目前传统的多光谱适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的制备主要采用单片滤光片基底，逐个将不同特征谱段的膜采用光刻镀膜方式镀在基底表面不同区域，如图1所示，所述多光谱适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器由基底1，不同谱段一镀膜区2，谱段二镀膜区域3，其他谱段镀膜区域4，谱段N镀膜区域5组成。

单片基底制备往往导致了下面两个问题：一是谱段集成度越高良品率越低，通常在可见光谱段，针对谱段半峰值宽度±20nm，镀膜良品率大约60％，由于在单片基底上实现多光谱对于镀膜工艺是一个串行过程，因此实现8谱多光谱的镀膜良品率大约为1.7％，谱段越多良品率越低，成本越高；二是随着谱段分辨率增高，良品率成指数倍下降，成本急剧上升，价格昂贵，可计算当单一谱段镀膜良品率降低为30％时，8谱多光谱适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的良品率也达到了万里挑一的水平，况且当将谱段半峰值宽度要求提升至±5nm时，单一谱段良品率将指数倍降低。因此单片滤光片基底光刻镀膜的方式无法应用于精细多光谱适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器的制备。

发明内容

本发明旨在克服现有技术存在的缺陷，本发明采用以下技术方案：

本发明提供了一种适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器。所述适用于精细多光谱成像仪的超高谱段集成度分谱器包括：至少两个干涉带通滤光片，所述干涉带通滤光片相互结合在一起，且所述干涉带通滤光片的谱段不同。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片为窄条干涉带通滤光片，所述窄条干涉带通滤光片的形状为细长条状的长方体。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片的谱段半峰值宽度小于±5nm。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片之间是通过粘接结合在一起。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片之间是通过环氧树脂胶进行粘接结合在一起。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片的材料为融石英材料。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片上设置有镀膜层。

在一些实施例中，所述镀膜层是通过激光镀膜的方式得到，采用真空镀膜或磁控反应溅射镀制所述镀膜层，镀膜时各处沉积速率均相同，通过镀膜时间来得到不同谱段的干涉带通滤光片。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片的谱段通过范围为400nm～1000nm。

在一些实施例中，所述干涉带通滤光片的数量为至少8个。