[发明专利]一种场磨电场仪在审
申请号: | 201710898474.6 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN107807285A | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 马清 | 申请(专利权)人: | 马清 |
主分类号: | G01R29/14 | 分类号: | G01R29/14 |
代理公司: | 郑州裕晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)41142 | 代理人: | 王瑞 |
地址: | 100080 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电场 | ||
技术领域
本发明属于电力检测设备技术领域,具体涉及一种场磨电场仪。
背景技术
由于电晕现象,在高压传输线附近存在大量的带电离子,该带电离子沿着电场线运动,形成空间离子流场,该离子流场和原电场叠加形成新的复合电场使得测量变得更加困难,测量结果发现,当空间存在大量带电离子时,由带电离子产生的电场可达到原电场的3~5倍,这样的巨大干扰给空间电场的测量带来了巨大的挑战。
目前测量离子流环境下电场的主要工具为“场磨”,场磨利用特殊的金属顶板结构将空间离子流阻挡并实时导入大地,这个特殊结构避免了离子流的干扰,并使电场的测量更加精准,因此得到了很广泛的应用,但是由于场磨需要实时将带电离子导入大地,因此限制其只能在地面上进行测量,而空间电场的测量需要设备在真正的空间环境下测量;另外,由于其体积大、成本高,场磨不能用于检测设备的小型化、智能化和低成本改造,这些缺点都极大地限制了场磨在未来高压电场中的应用。
发明内容
本发明的目的在于提供一种场磨电场仪,可以有效地阻挡外界离子流进入装置,并实现离子流环境下的复合电场的精确测量。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种场磨电场仪,包括底架、顶架、第一金属、第二金属、第一传感器和第二传感器,所述底架设置于顶架下方,所述第一金属设置于第二金属左侧,所述第一传感器设置于第二传感器左侧,所述第一金属包括第一底部金属、第一上部金属和第一顶部金属,所述第二金属包括第二底部金属、第二上部金属和第二顶部金属,所述第一顶部金属和第二顶部金属设置在所述顶架,所述第一上部金属和第二上部金属均设置在底架上端,所述第一底部金属和第二底部金属设置在底架下部,所述第一传感器和第二传感器分别设置在第一底部金属上侧面和第二底部金属上侧面。
优选的,所述第一顶部金属和第二顶部金属对称设置在顶架两侧。
优选的,所述第一上部金属和第二上部金属位于同一水平高度。
优选的,所述第一底部金属的位置高于第二底部金属。
优选的,所述底架设置左右两部分,且设置隔离左右两部分的隔离板。
与现有技术相比,本发明的有益效果如下:
对于离子流环境下直流电场的测量,现有的技术主要是利用旋转电场仪测试,但是,旋转电场仪只能测量地面附近的电场,并且旋转电场仪由于体积大,功耗高等缺点,使得其不能在高空测量空间离子流环境下的合成电场;而本发明采用了特殊的处理结构,避免了离子流对传感器的影响,通过双层浮地结构和解析方程将合成电场和新电场进行了成功的分离,从而得到了直流合成电场。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明电场示意图。
图中:1第一底部金属、2第一上部金属、3第一顶部金属、4第二底部金属、5第二上部金属、6第二顶部金属、7第一传感器、8第二传感器、9顶架、10底架。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于马清,未经马清许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710898474.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种功率偏差值修正装置及方法
- 下一篇:一种阀基控制设备的测试系统