[发明专利]透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏

说明书

本发明提供了一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。该透明导电膜包括层叠设置的基材层、光学调整层和ITO层，其中，基材层的折射率为1.3～1.8，光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ITO层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下。上述透明导电膜不仅具有较大的机械强度，能够代替现有技术中的硬化层，还能够有效地避免了干涉条纹的产生，进而使具有上述透明导电膜的电容式触摸屏能够具有良好显示效果。

技术领域

本发明涉及光学技术领域，具体而言，涉及一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。

背景技术

市场上用于电容式触摸屏中的透明导电膜除了具有基材和ITO层之外，通常还具有设置于基材两侧的硬化膜以及设置于基材与ITO层之间的光学调整层(IM)，这类硬化膜产品能够满足目前电容式触摸屏的基本需求。随着智能设备市场的迅速扩大及普及电容式触摸屏的品质要求也逐步提高，于此同时，价格竞争也越来愈激烈。

在现有技术中用于电容式触摸屏的透明导电膜中，基材通常为PET材料，然而，PET材料的耐温性较差，从而会影响电容式触摸屏的耐候性，若采用耐温性较高的基材替换现有技术中的PET基材，由于耐温性较高的基材通常具有与硬化膜较大的折射率差，从而会导致透明导电膜出现干涉条纹，上述干涉条纹会影响电容式触摸屏的显示效果；并且，在产品的制备中ITO层的蚀刻是必不可少的，而在蚀刻工艺中，ITO层被蚀刻的纹路会因为基材在加热工序中的收缩而变形，光线在通过蚀刻凹坑与ITO层的反射率差、色差或凹凸差别变得更加明显从使得而立体纹显露出来，从而导致最后做成的电容式触摸屏会因为明显的立体纹而严重影响产品的品质。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏，以解决现有技术中透明导电膜因为明显的立体纹而严重影响产品的品质的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种透明导电膜，包括层叠设置的基材层、光学调整层和ITO层，其中，基材层的折射率为1.3～1.8，光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ITO层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下。

进一步地，上述基材层的折射率为1.4～1.7。

进一步地，上述基体中设置有一种折射率材料，沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈线性递增；或沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈光滑曲线递增；优选的，沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈S型曲线递增或J型曲线递变。

进一步地，上述折射率渐变层包括至少两种折射率材料，且沿折射率渐变方向各折射率材料的含量比例相互独立地呈平滑递增或者平滑递减。

进一步地，上述折射率渐变层包括第一折射率材料和第二折射率材料，第一折射率材料和第二折射率材料的折射率不同，且沿折射率渐变方向第一折射率材料的含量比例递增，第二折射率材料的含量比例递减。

进一步地，上述各折射率材料独立地选自气溶胶、硅胶、亚克力、聚氨酯、环氧化合物、聚碳酸酯、聚酰亚胺、金属、金属氟化物、无机氧化物、金属硫化物和中空有机高分子化合物，无机氧化物包括实体金属氧化物和中空无机氧化物。

进一步地，上述各折射率材料的密度相互独立地分布在0.1～15g/cm³之间，优选在0.3～10g/cm³之间。