[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上方的交叉设置的栅线与数据线、薄膜晶体管；所述薄膜晶体管包括：栅极，设置在所述栅极远离所述衬底基板侧的有源层以及设置在所述有源层远离所述衬底基板侧的源极与漏极；其特征在于，

所述栅极为所述栅线的一部分；

所述源极为所述数据线的一部分，且所述源极的至少部分区域位于所述数据线与所述栅线在所述衬底基板上的正投影存在重叠的区域内；其中，在所述源极的整体位于所述数据线与所述栅线在所述衬底基板上的正投影存在重叠的区域内的情况下，所述栅线在所述衬底基板上的正投影完全覆盖所述有源层在所述衬底基板上的正投影；

在所述源极的部分区域位于所述数据线与所述栅线在所述衬底基板上的正投影存在重叠的区域内的情况下，所述栅线在所述衬底基板上的正投影部分覆盖所述有源层在所述衬底基板上的正投影；

所述源极的图形为U形或准U形，所述U形或所述准U形的开口方向与所述数据线延伸方向相垂直；

所述漏极的至少部分区域位于所述U形或所述准U形的开口区域内。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：设置在所述栅线、所述数据线以及所述薄膜晶体管上的钝化层和设置在所述钝化层上的像素电极；所述像素电极通过所述钝化层上的过孔与所述漏极电性连接。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：设置在所述像素电极与所述衬底基板之间的公共电极。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极与所述栅线同层设置。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至4任一项所述的阵列基板。

6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

在衬底基板上方依次形成栅线、栅绝缘层、有源层、数据线和漏极的步骤；

其中，所述栅线的一部分作为栅极，所述有源层形成在所述栅极的上方，所述漏极形成在所述有源层之上；

所述数据线的一部分作为源极，且所述源极的至少部分区域位于所述数据线与所述栅线在所述衬底基板上的正投影存在重叠的区域内；其中，在所述源极的整体位于所述数据线与所述栅线在所述衬底基板上的正投影存在重叠的区域内的情况下，所述栅线在所述衬底基板上的正投影完全覆盖所述有源层在所述衬底基板上的正投影；

在所述源极的部分区域位于所述数据线与所述栅线在所述衬底基板上的正投影存在重叠的区域内的情况下，所述栅线在所述衬底基板上的正投影部分覆盖所述有源层在所述衬底基板上的正投影；

所述源极的图形为U形或准U形，所述U形或所述准U形的开口方向与所述数据线延伸方向相垂直；

所述漏极的至少部分区域位于所述U形或所述准U形的开口区域内；

所述栅极、所述有源层、所述源极和所述漏极构成薄膜晶体管。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，形成所述数据线和所述漏极的步骤包括：

在形成有所述栅线、所述栅绝缘层和所述有源层的所述衬底基板上方依次形成金属层和光刻胶层；

通过掩膜板对所述光刻胶层进行曝光、显影，形成光刻胶图案；所述光刻胶图案覆盖住的所述金属层的区域对应于待形成的数据线和漏极的图案；

对所述光刻胶图案露出的所述金属层的区域进行刻蚀，形成位于所述光刻胶图案下方的所述数据线和所述漏极的图案；

去除所述光刻胶图案，以形成所述数据线和所述漏极。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在所述在衬底基板上方依次形成栅线、栅绝缘层、有源层、数据线和漏极的步骤之前，所述制备方法还包括：在衬底基板上形成公共电极的步骤。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在所述在衬底基板上方依次形成栅线、栅绝缘层、有源层、数据线和漏极的步骤之后，所述制备方法还包括：

在所述衬底基板上方形成具有过孔的钝化层的步骤，所述过孔露出下方的所述漏极；

在所述钝化层上形成像素电极的步骤，所述像素电极通过所述过孔与所述漏极电性连接。