[发明专利]一种石斛原料清洗装置在审
申请号: | 201710887614.X | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN107876475A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 李维宝 | 申请(专利权)人: | 霍山宝信园石斛开发有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/10;B08B1/02;B08B13/00 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙)35222 | 代理人: | 郭福利 |
地址: | 237200 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石斛 原料 清洗 装置 | ||
技术领域
本发明属于石斛技术领域,具体涉及一种石斛原料清洗装置。
背景技术
石斛,又名仙斛兰韵、不死草、还魂草、紫萦仙株、吊兰、林兰、禁生、金钗花等。茎直立,肉质状肥厚,稍扁的圆柱形,长10~60厘米,粗达1.3厘米。药用植物,性味甘淡微咸,寒,归胃、肾,肺经。益胃生津,滋阴清热。用于阴伤津亏,口干烦渴,食少干呕,病后虚热,目暗不明。石斛花姿优雅,玲珑可爱,花色鲜艳,气味芳香,被喻为“四大观赏洋花”之一。茎直立,肉质状肥厚,稍扁的圆柱形,长10~60厘米,粗达1.3厘米,上部多少回折状弯曲,基部明显收狭,不分枝,具多节,节有时稍肿大;节间多少呈倒圆锥形,长2~4厘米,干后金黄色。叶革质,长圆形,长6~11厘米,宽1~3厘米,先端钝并且不等侧2裂,基部具抱茎的鞘。石斛喜在温暖、潮湿、半阴半阳的环境中生长,以年降雨量1000毫米以上、空气湿度大于80%、1月平均气温高于8℃的亚热带深山老林中生长为佳,对土肥要求不甚严格,野生多在疏松且厚的树皮或树干上生长,有的也生长于石缝中。产于安徽省霍山县的霍山石斛是石斛中的极品,但是霍山石斛生长环境苛刻,产量稀少,市面上只有少数像福临门铁皮石斛这样的老品牌能买到真正的霍山石斛。
现有的石斛原料清洗装置均是使用水对石斛原料进行清洗,而在水的冲刷下石斛原料极易堆积在一起,从而导致部分石斛原料的外表面不能被水冲刷,进而影响后期加工的问题,为此我们提出一种石斛原料清洗装置。
发明内容
本发明的目的在于提供一种石斛原料清洗装置,以解决上述背景技术中提出现有的石斛原料清洗装置均是使用水对石斛原料进行清洗,而在水的冲刷下石斛原料极易堆积在一起,从而导致部分石斛原料的外表面不能被水冲刷,进而影响后期加工的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种石斛原料清洗装置,包括清洗机外壳,所述清洗机外壳的一侧设置有淋水箱,所述淋水箱的上表面设置有控制箱外壳,所述淋水箱的一侧设置有出料口,所述淋水箱的下方设置有清洗机发动机,所述清洗机外壳的前表面设置有清洗机水泵,所述清洗机水泵的两侧均设置有纵向支架,所述纵向支架的一侧设置有外接水管,所述外接水管的一端设置有搅拌轴外接水管口,所述搅拌轴外接水管口的后表面设置有搅拌轴带动轮,所述搅拌轴带动轮的后表面设置有搅拌转轴固定环,所述搅拌轴带动轮的外表面设置有驱动皮带,所述驱动皮带的一端设置有搅拌电机,所述清洗机外壳的底部设置有支撑脚,所述搅拌轴带动轮的后表面设置有搅拌轴,所述搅拌轴的外表面设置有喷水轴,所述喷水轴的内部设置有清洗刷板,所述清洗刷板的一侧设置有清洗刷。
优选的,所述喷水轴上设置有矩形凹槽,且凹槽内部和一端均设置有圆形孔洞。
优选的,所述清洗刷板上设置有圆形孔洞。
优选的,所述搅拌轴带动轮的外表面设置有矩形凹槽。
优选的,所述搅拌轴的剖面形状为圆环形。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
(1)通过设计了安装在清洗机外壳内部的搅拌轴和喷水轴便于拨开堆积的石斛原料,解决了现有的石斛原料清洗装置均使用水流进行清洗,极易使得石斛原料堆积,进而导致影响下部加工的问题。
(2)通过设计了安装在喷水轴上的清洗刷板和清洗刷便于清刷石斛原料,解决了现有的石斛原料清洗装置均使用水流进行清洗,从而无法清洗下部分粘黏较牢的垃圾的问题。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明的剖视结构示意图;
图3为本发明的搅拌轮部分侧面结构示意图;
图4为本发明的清洗刷部分侧面结构示意图;
图中:1-外接水管、2-纵向支架、3-清洗机外壳、4-控制箱外壳、5-出料口、6-淋水箱、7-清洗机发动机、8-驱动皮带、9-搅拌电机、10-搅拌轴外接水管口、11-搅拌转轴固定环、12-搅拌轴带动轮、13-清洗机水泵、14-支撑脚、15-喷水轴、16-清洗刷、17-搅拌轴、18-清洗刷板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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