[发明专利]超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺

说明书

本发明公开一种超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺，该胶水转印工艺包括下述步骤：步骤S1、开料：采用的材料包括下述：硅胶转印膜：采用硅胶保护膜作为硅胶转印膜；遮光膜材料采用透明PET膜；不干胶胶水：胶水3M胶水；步骤S2、胶水印刷：将不干胶胶水印刷在硅胶转印膜的硅胶面上；步骤S3、转印：将不干胶胶水转印到PET膜上；步骤S4、贴保护膜：在透明PET膜上的胶水层上贴上离型纸保护膜，即完成。本发明采用硅胶作为材质进行胶水转印，可实现超薄遮光膜的胶水自动印刷，不仅可提高生产效率，降低人工成本，还可以提高产品的合格率，减少加工过程中的损毁。

技术领域

本发明公开一种遮光膜加工方法，特别是一种超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺。

背景技术

遮光膜作为遮光材料被广泛应用于各种手机、发光键盘、带背光的笔记本电脑等中，遮光膜可将导光膜发出的光中的无用部分（或成为多余部分）进行遮挡，防止多余的光线射出影响人们的正常使用。随着各类电子的不断发展，电子产品逐渐朝着轻薄化趋势发展，产品的轻薄化就要求整个产品的各种配件都轻薄化，从而反应在产品上，即将产品的整个厚度减薄。遮光膜作为电子产品的主要配件整体厚度也要求越来越薄，因此就出现了超薄遮光膜的情况，由于遮光膜在使用时是通过不干胶粘合在导光膜上的，因此其在加工过程中需要在遮光膜上印刷胶水，然而，由于超薄遮光膜的厚度较小，常规的胶水印刷工艺很难满足，在胶水印刷过程中，容易产生遮光膜褶皱变形，从而影响产品的质量。

发明内容

针对上述提到的现有技术中的超薄遮光膜印刷胶水过程中容易产生产品褶皱变形的缺点，本发明提供一种超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺，其采用硅胶作为材质进行胶水转印，可实现超薄遮光膜的胶水自动印刷。

本发明解决其技术问题采用的技术方案是：一种超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺，该胶水转印工艺包括下述步骤：

步骤S1、开料：采用的材料包括下述：

硅胶转印膜：采用硅胶保护膜作为硅胶转印膜；

遮光膜材料采用透明PET膜；

不干胶胶水：胶水3M胶水；

步骤S2、胶水印刷：将不干胶胶水印刷在硅胶转印膜的硅胶面上；

步骤S3、转印：将不干胶胶水转印到PET膜上；

步骤S4、贴保护膜：在透明PET膜上的胶水层上贴上离型纸保护膜，即完成。

本发明解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括：

所述的步骤S2包括下述子步骤：

（1）、网版检查：采用检测菲林对印刷网版进行检测；

（2）、卷料设置：在卷料方向上设置跳距，确认跳距以检测菲林为基准；

（3）、印刷：采用网版印刷方式将不干胶印刷在硅胶转印膜的硅胶面上；

（4）、烘烤：将印刷胶水的硅胶膜放置于烤箱中烘烤。

所述的不干胶印刷量为3±1G。

所述的印刷网版的网目采用56±5T，印刷角度为90°±5°。

所述的烘烤温度为75℃±5℃。

所述的烘烤时进料速度为每分钟进料25±1张。

所述的步骤S3包括下述子步骤：

（1）、撕除离型纸：将透明PET膜表面的硅胶保护膜撕除，保留透明PET膜；

（2）、贴合：将表面印刷有胶水的硅胶转印膜与透明PET膜贴合在一起；