[发明专利]作为混合模式色谱介质的环氧基化学衍生材料、用于合成和使用它们的方法在审
| 申请号: | 201710883993.5 | 申请日: | 2014-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN107983325A | 公开(公告)日: | 2018-05-04 |
| 发明(设计)人: | 刘晓东;曹亮;C·A·波尔 | 申请(专利权)人: | 戴安公司 |
| 主分类号: | B01J20/287 | 分类号: | B01J20/287;B01J20/283;B01J20/30;B01J41/09;B01J43/00;B01J41/20;B01J39/17;B01J39/26;C07F7/08;C07F7/10 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 陶家蓉 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 作为 混合 模式 色谱 介质 环氧基 化学 衍生 材料 用于 合成 使用 它们 方法 | ||
1.一种组合物,包含一种共价地结合到一种基质上的化合物,所述化合物具有根据以下化学式(I)的结构
其中n是选自0和1的一个整数:
X是选自下组,该组由以下各项组成:NRfR21R22、SRf、或ORf
其中
Rf是选自下组,该组由以下各项组成:未被取代的烷基或被以下成员取代的烷基,该成员是选自羧酸、磺酸、磷酸、氨基酸、和它们的组合;以及被取代未被取代的杂烷基
R21是选自下组,该组由以下各项组成:H、被取代或未被取代的烷基、和被取代或未被取代的杂烷基
R22是选自以下组,该组由以下各项组成:孤对电子、H、被取代或未被取代的烷基、以及被取代或未被取代的杂烷基
R1、R2、和R3是独立地选自下组,该组由以下各项组成:卤素、OR10、NR10R11、OC(O)R12、OS(O)2R12、被取代或未被取代的烷基、被取代或未被取代的杂烷基、被取代或未被取代的芳基、被取代或未被取代的杂芳基、被取代或未被取代的杂环烷基、以及与所述基质的一个键
其中每个R10和每个R11是独立地选自下组,该组由以下各项组成:H、被取代或未被取代的烷基、被取代或未被取代的杂烷基、被取代或未被取代的芳基、被取代或未被取代的杂芳基、被取代或未被取代的杂环烷基、以及与硅胶基质的一个键
其条件是,R1、R2和R3中的至少一个是未被取代的C1-C3烷基或OH
每个R12是独立地选自下组,该组由以下各项组成:被取代或未被取代的烷基、被取代或未被取代的杂烷基、被取代或未被取代的芳基、被取代或未被取代的杂芳基、以及被取代或未被取代的杂环烷基;
其条件是,R1、R2和R3中的至少一个与所述基质共价地结合的;
L1和L2是独立地选自以下各项的接头基团:被取代或未被取代的烷基、被取代或未被取代的杂烷基、被取代或未被取代的芳基、被取代或未被取代的杂芳基、以及被取代或未被取代的杂环烷基;并且
Y是O。
2.如权利要求1所述的化合物,其中
R1、R2和R3是独立地选自下组,该组由以下各项组成:OR10、OC(O)R12、OS(O)2R12、以及未被取代的烷基,
其中每个R10和每个R11是独立地选自下组,该组由以下各项组成:H、被取代或未被取代的烷基、被取代或未被取代的杂烷基、被取代或未被取代的芳基、被取代或未被取代的杂芳基、被取代或未被取代的杂环烷基、以及与硅胶基质的一个键
其条件是,R1、R2和R3中的至少一个是未被取代的C1-C3烷基或OH
每个R12是独立地选自下组,该组由以下各项组成:被取代或未被取代的烷基、被取代或未被取代的杂烷基、被取代或未被取代的芳基、被取代或未被取代的杂芳基、以及被取代或未被取代的杂环烷基,
L1是C3未被取代的烷基;并且
L2是C1-C8未被取代的烷基。
3.如权利要求1所述的组合物,其中该结构是根据以下化学式(II)
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