[发明专利]一种彩色不锈钢真空镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及真空镀领域，尤其涉及一种在外筒体和内筒体上均设有呈圆柱螺旋状分布的金属离子源组的彩色不锈钢真空镀膜装置。

背景技术

在电镀工艺中，需要镀膜的被称为基片，镀的材料称为靶材。在需要对金属管件进行真空电镀时，金属管件为靶材，一般先将金属管件放置在真空外筒体内抽真空，然后通过设置在外筒体上的离子源将呈中性的靶材电离，让其附着在基片(即真空管件)的表面并逐渐形成薄膜。

目前的真空镀膜装置中，为使金属管件表面与真空外筒体内被电离的靶材接触更充分、从而提高镀膜的均匀度，真空镀膜装置中设有能使金属管件转动的旋转机构。然而，由于传统真空镀膜装置中，离子源布置的位置较为单一，一般只设置在外筒体上的某一处，导致外筒体内距离离子源位置较近的靶材电离效果充分，而远离离子源的靶材电离效果较差，因此，只有当金属管件转到离该离子源较近的位置时，附着在金属管件上的靶材质量才比较好，有时候会通过加快金属管件的旋转来抵消镀膜的不均匀度，但由于一台真空镀膜装置中装的管件较多，加上旋转机构本身质量大，导致加快金属管件旋转会带来巨大的能耗。最终完成电镀工艺后的金属管件，其表面的电镀薄膜分布均匀度不高，保护效果和色彩效果较差。

发明内容

本发明的目的是提供一种使金属管件表面电镀薄膜均匀度高的彩色不锈钢真空镀膜装置。

为实现上述目的，本发明提供一种彩色不锈钢真空镀膜装置，包括圆柱形外筒体，所述外筒体内设有与其同轴线布置的圆柱形内筒体，外筒体与内筒体之间设有用于带动金属管件转动的旋转机构，外筒体和内筒体上分别设有绕两者侧壁呈圆柱螺旋状布置的第一金属离子源组和第二金属离子源组，所述第一金属离子源组和第二金属离子源组中均包括多个沿同一圆柱螺旋线间隔分布的金属离子源，第一金属离子源组和第二金属离子源组螺旋方向相同且两者相对布置。

作为本发明的进一步改进，位于所述第一金属离子源组中的金属离子源与位于第二金属离子源组中的金属离子源一一对应，相对应的一对金属离子源位于所述外筒体的同一横截面上，且两者绕圆柱形外筒体的中轴线对称布置。

作为本发明的更进一步改进，所述相对应的一对金属离子源两者之间的连线与所述外筒体的中轴线相交且垂直。

作为本发明的更进一步改进，所述第一金属离子源组和第二金属离子源组中，相邻两个金属离子源的间距为a，a为350-450mm。

作为本发明的更进一步改进，所述第一金属离子源组和第二金属离子源组中，其螺距均为b，b为100-150mm。

作为本发明的更进一步改进，所述圆柱形外筒体竖直布置，其直径为4-5m，其高度为8-12m。

有益效果

与现有技术相比，本发明的彩色不锈钢真空镀膜装置的优点为：

1、如果金属离子源组采用与圆筒形外筒体轴线延伸方向相平行的直线布置方式，由于相邻两个金属离子源之间总存在一定距离，金属管件在外筒体中转动时，金属管件上的部分位置不管转至什么角度，都不能最大限度地接近金属离子源，因此，金属管件该部分的镀膜质量相比其它部位差，从而导致整个产品的表面镀膜不均匀；而本发明中，位于外筒体和内筒体之间的旋转机构带动金属管件转动，转动过程中，由于第一金属离子源组和第二金属离子源组中的金属离子源分别沿同一圆柱螺旋线间隔分布，在不大幅度增加金属离子源数量的情况下，通过调整相邻两个金属离子源的间距和金属离子源组的螺距，即可让同一根金属管件在旋转过程中，金属管件上的任意部位均能尽可能靠近一个金属离子源，并被附近经金属离子源充分电离的靶材附着在其表面上，薄膜附着更均匀，而且被电离的靶材附着力强，能更好得附着在金属管件上长度延伸方向的各个部位，从而提高产品质量，真空电镀工序所需的时间缩短至原来的一半，功效提高50％以上；此外，由于通过圆柱螺旋状的金属离子源组即可有效提高电镀质量，真空镀膜装置中的旋转机构带动金属管件转动的速度无需太快，大幅节省了能源的消耗；

2、第一金属离子源组中的金属离子源与位于第二金属离子源组中的金属离子源一一对应，即金属管件上的任意部位都能同时接近两个相对的金属离子源，两个金属离子源相对的区域其靶材电离更充分，镀膜能更好地附着在金属管件上，进一步提高其镀膜的均匀性和镀膜的时间。

通过以下的描述并结合附图，本发明将变得更加清晰，这些附图用于解释本发明的实施例。

附图说明