[发明专利]一种掩膜板图形的制备方法及掩膜板有效
| 申请号： | 201710876522.1 | 申请日： | 2017-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN107400851B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 李洁;卢冠宇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 图形 制备 方法 | ||
1.一种掩膜板图形的制备方法，其特征在于，包括：
使用密封剂封堵掩膜板上的一部分蒸镀孔，使掩膜板上未被封堵的一部分蒸镀孔形成所需的掩膜板图形；
所述使用密封剂封堵掩膜板上的一部分蒸镀孔，具体包括：
通过喷墨打印工艺将密封剂注入所需封堵的蒸镀孔内；
对蒸镀孔内的密封剂进行固化处理，使密封剂固化。
2.根据权利要求1所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，所述通过喷墨打印工艺将密封剂注入所需封堵的蒸镀孔内之前，还包括：
将所述掩膜板放置于承载台面上。
3.根据权利要求2所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，所述将所述掩膜板放置于承载台面上之后，还包括：
对所述掩膜板施加贴合力使所述掩膜板与所述承载台面贴合。
4.根据权利要求3所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，所述贴合力为所述承载台面背离所述掩膜板一侧的磁性吸力。
5.根据权利要求2所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，所述对蒸镀孔内的密封剂进行固化处理之后，还包括：
将所述掩膜板与所述承载台面分离。
6.根据权利要求5所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，所述承载台面的表面设置有不沾涂层。
7.根据权利要求1所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，注入蒸镀孔内的密封剂的高度小于或等于对应的蒸镀孔的高度。
8.根据权利要求1所述的掩膜板图形的制备方法，其特征在于，所述固化处理为紫外光固化。
9.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上具有多个蒸镀孔，所述掩膜板的掩膜板图形通过如权利要求1所述的掩膜板图形的制备方法制备形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710876522.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：重型机械零部件的渗碳工艺
- 下一篇：一种硅碳氮蓝光发光薄膜及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
