[发明专利]一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置

说明书

本发明公开了一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置，其中，所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，用于容纳蒸镀材料；至少两层垫片，间隔设置于所述坩埚本体内，每一所述垫片贯通开设多个通孔，以使得所述蒸镀材料汽化后顺利通过所述垫片，并阻挡所述蒸镀材料中的固体杂质。通过上述方式，本发明能够将蒸镀材料中的杂质过滤，减少待加工产品中的杂质，从而提高产品的良率。

技术领域

本发明涉及显示屏制造技术领域，特别是涉及一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置。

背景技术

随着有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)显示屏广泛运用到手机屏上，越来越多的面板厂商开始建设OLED显示屏量产线，其中蒸镀工艺是影响OLED显示屏良率的关键制程，是在量产线制备过程中需要重点控制的项目。

现有OLED器件主要包括有机膜层和金属膜层，其中，金属膜层主要使用镁/银共蒸作为OLED阳极。

本申请的发明人在长期的研发过程中，发现采用蒸镀工艺在待加工产品上沉积镁的过程中，在往坩埚本体内添加镁时，因镁活性较高，与空气接触的镁易被氧化成氧化镁，同时镁的纯度高达99.99％，因提纯困难导致起始原料镁中含有部分杂质，如此，在沉积镁的过程中，起始原料中的少量杂质和氧化物氧化镁会蒸镀到产品上，从而导致代加工产品表面出现混色、黑点等情况，影响良品率。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置，能够将蒸镀材料中的杂质过滤，减少待加工产品中的杂质，从而提高产品的良率。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚包括：

坩埚本体，用于容纳蒸镀材料；

至少两层垫片，间隔设置于所述坩埚本体内，每一所述垫片贯通开设多个通孔，以使得所述蒸镀材料汽化后顺利通过所述垫片，并阻挡所述蒸镀材料中的固体杂质。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种蒸镀装置，包括蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚为上述所述的蒸镀坩埚。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供的蒸镀坩埚包括坩埚本体，用于容纳蒸镀材料；至少两层垫片，间隔设置于所述坩埚本体内，每一所述垫片贯通开设多个通孔，以使得所述蒸镀材料汽化后顺利通过所述垫片，并阻挡所述蒸镀材料中的固体杂质。通过在坩埚本体内部间隔设置至少两层垫片，且每一层垫片贯通开设有多个通孔，如此，在加热过程中，坩埚本体内的蒸镀材料在达到一定温度时，发生汽化，随着垫片中的通孔而往上流动，而对待加工产品进行蒸镀，而蒸镀材料中所含杂质则保持为固体颗粒，受到气流的影响向上移动时，因垫片未开孔区域的阻挡作用，使得固体杂质无法继续向上移动，即使穿过通孔，则会再次受到下一层垫片的阻挡作用或重力作用而下降，从而将杂质过滤掉，在蒸镀过程中，能够有效避免了氧固体杂质蒸镀到待加工产品上，从而有效提高良品率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本发明蒸镀坩埚一实施方式的结构示意图；

图2是图1所示的蒸镀坩埚的分解示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。