[发明专利]光酸产生化合物和相关聚合物、光致抗蚀剂组合物以及形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法

权利要求书

1.一种具有以下结构的光酸产生化合物

其中

m是0、1、2、3、4、5或6；

n是0、1、2、3、4或5；

R¹和R²各自独立地是氢、卤素、羟基、羧基(-CO₂H)、未被取代或被取代的C_1-12烷基、未被取代或被取代的C_1-12烷氧基、未被取代或被取代的C_2-12烷酰基、未被取代或被取代的C_2-12烷酰氧基、未被取代或被取代的C_2-12烷氧基羰基、未被取代或被取代的C_3-12酐、未被取代或被取代的C_4-12内酯、未被取代或被取代的C_4-18乙缩醛、未被取代或被取代的C_5-18缩酮、未被取代或被取代的C_6-12芳基，前提是R¹和R²不连接而形成环芳基；

X和Y在每次出现时独立地是卤素、羟基、氨基、巯基、羧基、酰胺、氰基、硝基、未被取代或被取代的C_1-18烷基、未被取代或被取代的C_1-18烷氧基、未被取代或被取代的C_6-18芳基、未被取代或被取代的C_6-18芳氧基、未被取代或被取代的C_7-18烷基芳基、未被取代或被取代的C_7-18烷基芳氧基、未被取代或被取代的C_2-12烷氧基羰基、未被取代或被取代的C_4-18乙缩醛或未被取代或被取代的C_5-18缩酮；并且

Z^-是包含磺酸酯基、氨基磺酸酯基(sulfonamidate group)、亚氨基磺酸酯基(sulfonimidate group)、甲基化物基团或硼酸酯基的阴离子；其中Z^-任选地包含选自乙烯基和-C(O)C(R¹¹)＝CH₂形式的丙烯酰基的可聚合基团，其中R¹¹是氢、氟、氰基、C_1-9烷基或C_1-9氟烷基；

前提是所述光酸产生化合物包含至多一个可聚合基团。

2.根据权利要求1所述的光酸产生化合物，其中R¹和R²各自独立地是氢、C_1-12烷基或C_2-12烷氧基羰基。

3.根据权利要求1或2所述的光酸产生化合物，其中n是1、2或3；并且X在每次出现时独立地是C_1-18烷基或C_2-12烷氧基羰基。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的光酸产生化合物，其中m是零。

5.根据权利要求1所述的光酸产生化合物，具有以下结构

其中

q是0、1或2；

R^1a和R^2a各自独立地是C_1-12烷基；

R⁵、R⁶和R⁷各自独立地是未被取代或被取代的C_1-14烃基，其中R⁵、R⁶和R⁷中的两个能够经过连接而形成环状结构；并且其中R⁵、R⁶和R⁷中的碳原子总数不超过16；

X¹在每次出现时独立地是C_1-12烷基或C_2-12烷氧基羰基；并且

Z^-是包含磺酸酯基、氨基磺酸酯基、亚氨基磺酸酯基、甲基化物基团或硼酸酯基的阴离子。